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SiCl 4 /H 2 /O 2 反應(yīng)動力學(xué)及其化學(xué)加速計算

發(fā)布時間:2021-07-22 22:43
  本文提出了一個SiCl4/H2/O2反應(yīng)動力學(xué)模型,并采用H2/N2/SiCl4-N2/O2層流對沖擴(kuò)散火焰實驗驗證提出的詳細(xì)機(jī)理的準(zhǔn)確性,結(jié)果表明提出的詳細(xì)機(jī)理獲得的結(jié)果與測量結(jié)果較吻合。該詳細(xì)機(jī)理被應(yīng)用于熔石英玻璃合成仿真,與四步總包機(jī)理相比該詳細(xì)機(jī)理獲得了更低且更準(zhǔn)確的溫度及二氧化硅質(zhì)量分?jǐn)?shù)。為了在仿真中加快化學(xué)計算,本文研究了自適應(yīng)建表與動態(tài)自適應(yīng)化學(xué)的組合化學(xué)加速算法TDAC,得出采用TDAC算法能夠獲得加速因子為2.0的加速效果,且除了SiO2含量預(yù)測有小的偏差外,溫度和OH含量預(yù)測均較準(zhǔn)確。TDAC引起的誤差可以通過自適應(yīng)建表的容差值及DAC的簡化閾值進(jìn)行有效控制。另外,TDAC中初始搜索組分選擇對機(jī)理簡化結(jié)果有重要影響,最終產(chǎn)物SiO2是影響簡化結(jié)果的關(guān)鍵組分之一,應(yīng)該被包含在初始搜索組分中。 

【文章來源】:工程熱物理學(xué)報. 2016,37(03)北大核心EICSCD

【文章頁數(shù)】:10 頁

【部分圖文】:

SiCl 4 /H 2 /O 2 反應(yīng)動力學(xué)及其化學(xué)加速計算


圖4熔石英玻璃合成爐示意圖

溫度分布,溫度分布,自動選擇,準(zhǔn)確值


676?工程熱物理學(xué)報?37卷??上的分布與準(zhǔn)確值的誤差極其微小,主要區(qū)別出現(xiàn)?影響。另外,Si02質(zhì)量分?jǐn)?shù)分布呈現(xiàn)先升高后降低??在Si02質(zhì)量分?jǐn)?shù)上,采用TDAC時獲得的Si02質(zhì)?現(xiàn)象,在中心線某個位置出現(xiàn)最大值,與圖9中觀??量分?jǐn)?shù)偏離準(zhǔn)確值,但是偏離幅度不大,可以認(rèn)為?察結(jié)果一致。??是準(zhǔn)確的,而采用ISAT算法并沒有出現(xiàn)大的預(yù)測?3.2.3初始搜索組分選擇的影響??誤差,因此,TDAC偏離準(zhǔn)確值應(yīng)該是由于DAC機(jī)?TDAC算法中反應(yīng)機(jī)理簡化通過DRG實??理簡化帶來的,因為不同簡化閾值可能給機(jī)理簡化?現(xiàn),DRG簡化過程中初始搜索組分的選擇一般人工??結(jié)果帶來影響,下文將對該問題進(jìn)行深入討論。?選定,在本文中則采用人工選擇和自動選擇相結(jié)合??3.2.2?DAC簡化閾值的影響?的方法,自動選擇策略能夠避免人工選擇固定組分??TDAC加速算法引起的誤差主要包括兩部?帶來的困境,因為它可以根據(jù)燃燒過程自動選擇某??分:ISAT容差設(shè)定引起的誤差及DAC簡化閾值設(shè)?些重要組分作為初始搜索組分。在本文中,人工指定??定引起的誤差。在本文中,不討論ISAT誤差影響,初始搜索組分的組合見表2所示,其中H與熱釋放??設(shè)定ISAT容差值固定為lx?10_5,討論DAC簡化?緊密相關(guān),Si02為熔石英玻璃合成組分,是影響熔??閾值分別為〇.〇1及0.1時引起的溫度及Si02質(zhì)量?石英玻璃質(zhì)量的重要組分之一,〇H為另一個影響玻??分?jǐn)?shù)準(zhǔn)確性變化。圖8顯示,與詳細(xì)機(jī)理相比,不同?璃質(zhì)量的重要組分,它的含量及分布對玻璃光學(xué)質(zhì)??閾值下對應(yīng)的簡化機(jī)理獲得的溫度變化較小,而圖?量有重要作用。自動選擇組分策略選取計算單元格??9所示,Si

示意圖,合成爐,熔石英,玻璃


,其??程。另外,TDAC組合算法程序被嵌入到Fluent中,中流體域氣體吸收系數(shù)是組分濃度、壓力以及溫度??在每個單元格的流體迭代計算中實現(xiàn)詳細(xì)機(jī)理的動?的函數(shù),可以通過灰色氣體加權(quán)和模型(WSGGM)??態(tài)簡化及化學(xué)源項的高效計算,IS?AT容差eISAT及?計算,玻璃體為具有一定吸收率的半透明體。燃燒??DAC簡化閾值eDAC均可以在此進(jìn)行設(shè)置。?模型采用層流有限速率模型(LFR),入口氫氣和氧??3.1仿真設(shè)置?氣為當(dāng)量燃燒,中心SiCl4和氧氣質(zhì)量比為3.1(5。因??圖4為熔石英玻璃合成爐示意圖,主要包括燃??燒器、爐膛、合成膽石英M體以及肺下降機(jī)??械(未標(biāo)出),其中燃燒器采用環(huán)形布置結(jié)構(gòu),該燃^A古??燒器中心管通入載料氣(〇2)和sici4原料,其外圍3.2??環(huán)狀管道分別通人氧氣和氫氣。在合成肺英玻璃、在館石英玻璃合成仿真巾’以往的研究大多采??過程中,氫氣織氣反應(yīng)生成高溫火焰,并為后續(xù)廳、艦理?為說明獅動力學(xué)機(jī)理重要性,??反應(yīng)提供能量;同時,SiCl4發(fā)生氧化水解反應(yīng)生成本文采用徐^等s提出的^,SlCl4/HV〇2總包機(jī)??Si02,?Si〇2麵氣流撞擊并沉積到基底形成跳。玻麟對溶石英玻,合成條件進(jìn)2仿真,士對比采用??璃挖不斷長大并被底部冷空氣冷娜成-定高度玻#??璃體,然后艦下艦腿繼離腿獅纖自包麵中并沒有給氧-頻應(yīng)_率參數(shù),??器噴口距離保持不變,從而實現(xiàn)穩(wěn)定生長。產(chǎn)生的本文S?了!luent?1步氫?機(jī)理。結(jié)??尾氣通過爐子釀的出日排除。?果如SI「3所示’其中IS?5⑷為中公線上溫度分布’??圖5(b)為中心線上二氧化硅質(zhì)量分?jǐn)?shù)分布,中心線??s,cl4+〇2?為從玻璃體頂部到

【參考文獻(xiàn)】:
期刊論文
[1]CVD合成石英玻璃的結(jié)構(gòu)均勻性研究[J]. 隋梅,孫元成,宋學(xué)富,王宏杰.  武漢理工大學(xué)學(xué)報. 2010(22)
[2]加速詳細(xì)反應(yīng)動力學(xué)計算的ISAT改進(jìn)方法研究[J]. 賈明,解茂昭,周磊,劉紅.  工程熱物理學(xué)報. 2010(06)
[3]載料氣體對化學(xué)氣相沉積合成石英玻璃沉積速率的影響(英文)[J]. 徐馳,顧真安,饒傳東.  硅酸鹽學(xué)報. 2009(10)

碩士論文
[1]二氧化硅CVD過程中的熱現(xiàn)象研究[D]. 趙清偉.哈爾濱工業(yè)大學(xué) 2011



本文編號:3298043

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