紅霉素分子印跡聚合物的制備及其性能研究
發(fā)布時(shí)間:2021-05-18 06:52
紅霉素是一種具有高效抗菌性的抗生素,殘留的紅霉素會(huì)通過食物鏈進(jìn)入人體,從而對(duì)人體健康造成傷害,因此需要無毒害、成本低、易于制備的材料來處理殘留的紅霉素。本論文通過改進(jìn)制備方法,制備了紅霉素分子印跡聚合物(ERY@MIP),并以此為基礎(chǔ),以四氧化三鐵為載體,制備了具有超順磁性、便于快速分離和回收的磁性紅霉素分子印跡聚合物(Fe3O4@ERY@MIP);以二氧化鈦為載體,制備了容易光催化降解紅霉素的光降解紅霉素分子印跡聚合物(TiO2@ERY@MIP)。這三種分子印跡聚合物的制備及主要性能如下:(1)紅霉素分子印跡聚合物(ERY@MIP)制備及性能研究:將紅霉素(ERY)、乙腈、丙烯酸(AA)、偶氮二異丁腈(AIBN)和N,N-亞甲基雙丙烯酰胺(MBA)等為混合在一起,采用本體聚合法合成ERY@MIP,使用熱重(TG)、傅里葉變換紅外(FTIR)和掃描電鏡(SEM)等手段對(duì)其進(jìn)行表征。表征與吸附實(shí)驗(yàn)結(jié)果顯示,ERY@MIP穩(wěn)定性好,對(duì)ERY的平衡吸附量會(huì)隨著ERY初始濃度的增大而逐漸增大,其最大吸附量為1048.8 mg·g...
【文章來源】:蘭州交通大學(xué)甘肅省
【文章頁(yè)數(shù)】:64 頁(yè)
【學(xué)位級(jí)別】:碩士
【文章目錄】:
摘要
Abstract
1.緒論
1.1 紅霉素簡(jiǎn)介
1.1.1 紅霉素組成、結(jié)構(gòu)及性質(zhì)
1.1.2 紅霉素殘留的危害、檢測(cè)及處理方法
1.2 分子印跡技術(shù)
1.3 四氧化三鐵納米粒子
1.4 二氧化鈦光催化反應(yīng)機(jī)理
1.5 性能檢測(cè)
1.5.1 吸附量的測(cè)定
1.5.2 吸附率的測(cè)定
1.5.3 印跡因子
1.5.4 Scatchard分析
1.5.5 選擇性吸附
1.5.6 等溫吸附模型
1.5.7 吸附動(dòng)力學(xué)
1.5.8 吸附熱力學(xué)
1.6 分子印跡聚合物的表征方法
1.6.1 掃描電子顯微鏡
1.6.2 傅里葉紅外光譜
1.6.3 X射線衍射分析
1.6.4 熱重分析
1.6.5 磁性能分析
1.7 本論文的研究思路
1.8 研究?jī)?nèi)容與創(chuàng)新點(diǎn)
2 紅霉素分子印跡聚合物(ERY@MIP)
2.1 試劑與儀器
2.2 紅霉素濃度的檢測(cè)
2.3 分子印跡聚合物(ERY@MIP)的制備
2.4 ERY@MIP的鍵合性能
2.5 表征
2.5.1 SEM分析
2.5.2 FTIR分析
2.5.3 TG分析
2.6 結(jié)果與討論
2.6.1 靜態(tài)吸附實(shí)驗(yàn)
2.6.2 Scatchard分析
2.6.3 選擇性吸附實(shí)驗(yàn)
2.6.4 等溫吸附模型
2.6.5 吸附動(dòng)力學(xué)
2.6.6 吸附熱力學(xué)
2.6.7 重復(fù)利用率
2.7 本章小結(jié)
3 磁性紅霉素分子印跡聚合物(Fe3O4@ERY@MIP)
3.1 試劑與儀器
3.2 磁性分子印跡聚合物(Fe3O4@ERY@MIP)的制備
3.3 表征
3.3.1 SEM分析
3.3.2 FTIR分析
3.3.3 XRD分析
3.3.4 TG分析
3.3.5 磁性能分析
3.4 結(jié)果與討論
3.4.1 靜態(tài)吸附實(shí)驗(yàn)
3.4.2 Scatchard分析
3.4.3 選擇性吸附實(shí)驗(yàn)
3.4.4 等溫吸附模型
3.4.5 吸附動(dòng)力學(xué)
3.4.6 吸附熱力學(xué)
3.4.7 重復(fù)性利用率
3.5 本章小結(jié)
4 光降解紅霉素分子印跡聚合物(TiO_2@ERY@MIP)
4.1 試劑與儀器
4.2 TiO_2@ERY@MIP的制備
4.3 表征
4.3.1 SEM分析
4.3.2 FTIR分析
4.3.3 XRD分析
4.3.4 TG分析
4.4 結(jié)果與討論
4.4.1 TiO_2@ERY@MIP的光催化降解性能分析
4.4.2 靜態(tài)吸附實(shí)驗(yàn)
4.4.3 選擇性吸附實(shí)驗(yàn)
4.4.4 等溫吸附模型
4.4.5 吸附動(dòng)力學(xué)
4.4.6 吸附熱力學(xué)
4.4.7 重復(fù)利用率
4.5 本章小結(jié)
結(jié)論
致謝
參考文獻(xiàn)
攻讀學(xué)位期間的研究成果
本文編號(hào):3193341
【文章來源】:蘭州交通大學(xué)甘肅省
【文章頁(yè)數(shù)】:64 頁(yè)
【學(xué)位級(jí)別】:碩士
【文章目錄】:
摘要
Abstract
1.緒論
1.1 紅霉素簡(jiǎn)介
1.1.1 紅霉素組成、結(jié)構(gòu)及性質(zhì)
1.1.2 紅霉素殘留的危害、檢測(cè)及處理方法
1.2 分子印跡技術(shù)
1.3 四氧化三鐵納米粒子
1.4 二氧化鈦光催化反應(yīng)機(jī)理
1.5 性能檢測(cè)
1.5.1 吸附量的測(cè)定
1.5.2 吸附率的測(cè)定
1.5.3 印跡因子
1.5.4 Scatchard分析
1.5.5 選擇性吸附
1.5.6 等溫吸附模型
1.5.7 吸附動(dòng)力學(xué)
1.5.8 吸附熱力學(xué)
1.6 分子印跡聚合物的表征方法
1.6.1 掃描電子顯微鏡
1.6.2 傅里葉紅外光譜
1.6.3 X射線衍射分析
1.6.4 熱重分析
1.6.5 磁性能分析
1.7 本論文的研究思路
1.8 研究?jī)?nèi)容與創(chuàng)新點(diǎn)
2 紅霉素分子印跡聚合物(ERY@MIP)
2.1 試劑與儀器
2.2 紅霉素濃度的檢測(cè)
2.3 分子印跡聚合物(ERY@MIP)的制備
2.4 ERY@MIP的鍵合性能
2.5 表征
2.5.1 SEM分析
2.5.2 FTIR分析
2.5.3 TG分析
2.6 結(jié)果與討論
2.6.1 靜態(tài)吸附實(shí)驗(yàn)
2.6.2 Scatchard分析
2.6.3 選擇性吸附實(shí)驗(yàn)
2.6.4 等溫吸附模型
2.6.5 吸附動(dòng)力學(xué)
2.6.6 吸附熱力學(xué)
2.6.7 重復(fù)利用率
2.7 本章小結(jié)
3 磁性紅霉素分子印跡聚合物(Fe3O4@ERY@MIP)
3.1 試劑與儀器
3.2 磁性分子印跡聚合物(Fe3O4@ERY@MIP)的制備
3.3 表征
3.3.1 SEM分析
3.3.2 FTIR分析
3.3.3 XRD分析
3.3.4 TG分析
3.3.5 磁性能分析
3.4 結(jié)果與討論
3.4.1 靜態(tài)吸附實(shí)驗(yàn)
3.4.2 Scatchard分析
3.4.3 選擇性吸附實(shí)驗(yàn)
3.4.4 等溫吸附模型
3.4.5 吸附動(dòng)力學(xué)
3.4.6 吸附熱力學(xué)
3.4.7 重復(fù)性利用率
3.5 本章小結(jié)
4 光降解紅霉素分子印跡聚合物(TiO_2@ERY@MIP)
4.1 試劑與儀器
4.2 TiO_2@ERY@MIP的制備
4.3 表征
4.3.1 SEM分析
4.3.2 FTIR分析
4.3.3 XRD分析
4.3.4 TG分析
4.4 結(jié)果與討論
4.4.1 TiO_2@ERY@MIP的光催化降解性能分析
4.4.2 靜態(tài)吸附實(shí)驗(yàn)
4.4.3 選擇性吸附實(shí)驗(yàn)
4.4.4 等溫吸附模型
4.4.5 吸附動(dòng)力學(xué)
4.4.6 吸附熱力學(xué)
4.4.7 重復(fù)利用率
4.5 本章小結(jié)
結(jié)論
致謝
參考文獻(xiàn)
攻讀學(xué)位期間的研究成果
本文編號(hào):3193341
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