表面修飾層狀結構半導體光催化還原空氣中關鍵組分的研究
【學位單位】:華中師范大學
【學位級別】:碩士
【學位年份】:2018
【中圖分類】:O643.3;O644.1
【部分圖文】:
2006?2007?KNM?2009?2010?2011?20U?2019?2014?301S?201t??圖1.1?(a)光能太陽能的主要利用形式(b)?2006-20]6年太陽能容量變化??1.1.1半導體光催化的基本原理??
催化技術的規(guī);膽茫保丁。??2006?2007?KNM?2009?2010?2011?20U?2019?2014?301S?201t??圖1.1?(a)光能太陽能的主要利用形式(b)?2006-20]6年太陽能容量變化??1.1.1半導體光催化的基本原理??半導體結構中包含被電子填充的價帶頂和電子未填充的導帶底,兩者之前由禁??帶隔開,二者之間的能量相對差值就被定義為我們通常所說的帶隙能。那么對于一??1??
地應用于光催化領域,并逐漸替代傳統(tǒng)Ti02光催化劑成為了新的研宄熱點。??1.2.1二硫化鉬半導體基本結構與性質??TMDCs是具有MX2型的半導體,M代表過渡金屬(如Mo、W等),X代表??硫族元素(如S、Se、Te)。TMDCs的研宄歷史非常悠久,1923年Linus?Pauling??就確定了其結構,到1960s己經發(fā)現了超過60種TMDCs。M0S2和WS2可能是自??然界中僅存的層狀晶體TMDCs以M0S2為代表的2D過渡金屬硫化物(TMDCs)??由于具有特殊的能帶結構、半導體或超導性質以及優(yōu)秀的機械性能等,在納米電子??器件和光電子學等諸多領域具有廣闊的應用前景@]-[21]。??二硫化鉬(M〇S2)是一種帶有金屬光澤的黑色粉末,作為一種代表性層狀的??過渡金屬硫化物,其獨特的三明治結構和高比表面積,高化學穩(wěn)定性和對可見光的??強吸收等特性也成功的吸引了光催化研宄者們的目光。MoS2有IT、2H、3R三??種晶體結構,其中1T-MoS2和3R-MoS2處于亞穩(wěn)態(tài),常態(tài)下能穩(wěn)定存在的是??2H-M〇S2[22]。它的禁帶寬度隨其厚度變化可調,它層內通過牢固的Mo-S化學鍵相??連,而c軸方向層之間則通過作用力較弱的范德華力結合,因此層與層間很容易剝??離[23]-[24]〇??
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本文編號:2850093
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