典型過渡金屬二硫族化合物的高壓結(jié)構(gòu)相變及壓電催化特性研究
【學(xué)位授予單位】:吉林大學(xué)
【學(xué)位級別】:博士
【學(xué)位授予年份】:2018
【分類號】:O643.36
【圖文】:
2圖 1 典型的二維層狀材料,如:石墨烯,h-BN, TMDs, MOFs, COFs, MXenes,LDHs, oxides, metals, and BP.[14]1.1 TMDs 簡介1.1.1 晶體結(jié)構(gòu)TMDs 為形式為 MX2的一系列材料,M 是過渡金屬元素,從第Ⅳ族的 Ti、Zr、Hf,第Ⅴ族的 V、Nb、Ta,到第Ⅵ族的 Mo,W 等,X 為硫族元素 S、Se、或 Te?傮w來說,4-7 族主要為類石墨的層狀結(jié)構(gòu),在電子結(jié)構(gòu),化學(xué),機械和熱學(xué)特性上,具有有很強的各項異性;8-10 族為非層狀結(jié)構(gòu)。
圖 1.1 過渡金屬元素和三個硫族元素在元素周期表中被高亮顯示,他們主要為層狀材料。在 Co,Rh,Ir 和 Ni 中,只有部分二硫族化合物形成層狀結(jié)構(gòu)。例如,NiS2具有黃鐵礦結(jié)構(gòu),NiTe2為層狀化合物。在 TMDs 的層狀材料中,單層的 TMDs 以 X-M-X 的形式形成層狀結(jié)構(gòu),過渡金屬在硫族元素之間,層內(nèi)由很強的共價鍵(M-X)形成三明治結(jié)構(gòu),單層的X-M-X 有三方晶系(D3h)和八面體晶系(D3d)兩種結(jié)構(gòu)(圖 1.2a),這是由不同的過渡金屬和硫族元素相結(jié)合所決定的:在結(jié)合過程中,其結(jié)構(gòu)以更容易形成熱力學(xué)穩(wěn)定的形式存在,每一個層的厚度在 0.6-0.7 nm 之間。多層和體材料的TMDs 以不同的疊加形式和不同的過渡金屬原子的配位形式形成各種結(jié)構(gòu)的晶體(圖 1.2b)。層間由弱的范德華力相連接,因此,可以沿著層表面的方向,通過撕揭的方法得到少層或者單層的 TMDs。其中,體材料 MoS2的晶體如圖 1.3a
1.2 (a)單層 TMDs 三棱柱結(jié)構(gòu)沿著 c 軸方向的截面圖;(b)單層 T面體結(jié)構(gòu)沿著 c 軸方向的截面圖。其中,AbA 和 AbC 分別代表原子的排,大寫字母和小寫字母分別代表硫族原子和過渡金屬原子。(c)體材料的 T構(gòu)類型:2H,六方結(jié)構(gòu),每個重復(fù)單元為兩層,三方晶系的配位;3R,面體結(jié)構(gòu),每個重復(fù)單元為三層,三方晶系配位;1T,四方對稱結(jié)構(gòu),為一個重復(fù)單元,八面體配位。黃顏色的小球為硫族原子,灰色的小球金屬原子,對應(yīng)不同材料,晶格常數(shù) a 的范圍在 3.1-3.7 。疊加指數(shù) c 加的層數(shù),層間距為~6.5 。TMDs 中,過渡金屬原子提供四個電子填充的成鍵態(tài), M 和 X 的價態(tài)+4 和-2。由于硫族元素的孤對電子終止在層的表面,而沒有懸空鍵,不
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本文編號:2794602
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