絲光沸石的表面修飾及催化油酸異構(gòu)化反應(yīng)的研究
【圖文】:
1.4 沸石分子篩的改性沸石骨架中通過加入特定的離子,可以改變沸石的某種特性,如骨架強(qiáng)度、硅鋁比等,或者賦予沸石新的催化性能。另外通過沸石骨架中的離子交換,可以調(diào)變沸石的孔道及孔口直徑,增強(qiáng)其催化性能[53, 54]。離子交換法分為沸石骨架外的離子交換和沸石骨架內(nèi)的離子交換[55]。骨架內(nèi)的陽離子交換要滿足兩個(gè)基本條件[56]:(1)金屬要有與 Si、Al 和 P相對接近的原子直徑;(2)金屬原子可以與骨架中的其他原子形成共價(jià)鍵。目前,已經(jīng)有 Co、Fe、Gr、Ge、Mn、Ti 等金屬被引入到沸石分子篩中。一般而言,骨架內(nèi)的正離子交換不能增強(qiáng)沸石的酸性。骨架外離子交換法一般會直接或間接的增強(qiáng)沸石的酸性。如 H+可以取代沸石骨架外的中性離子,如 K+、Na+等,使中性沸石具有強(qiáng)酸性,可以應(yīng)用于酸催化反應(yīng)。使用 NH4+置換沸石中的中性離子后,通過高溫焙燒處理,使 NH4+分解,沸石骨架表面存在大量的質(zhì)子酸位,使沸石具有強(qiáng)酸性。P 是應(yīng)用最廣泛的改性物質(zhì),采用磷化物進(jìn)行改性可以有效改善酸強(qiáng)度[57]。
聚體副產(chǎn)物的生成,所以絲光沸石孔道內(nèi)的活性位點(diǎn)具有“尺寸選擇性”,其外表面的活性位點(diǎn)通常會降低產(chǎn)品的選擇性[58]。為了有效的利用絲光沸石高“尺寸選擇性”催化劑,需要鈍化其外表面的活性位點(diǎn)。.1 二氧化硅沉積法在沸石外表面包裹一層無催化活性的 SiO2薄殼,阻隔其外表面的活性位點(diǎn)應(yīng)物的接觸,,降低副反應(yīng)的生成,提高反應(yīng)選擇性,增加產(chǎn)率。根據(jù)其沉積的不同主要分為氣相沉積法(CVD)[59, 60]和液相沉積法(CLD)[61, 62]。使用硅醇鹽,如正硅酸四乙酯(TEOS)和四甲氧基硅烷(TMOS)對沸石修飾是減少其外表面活性位點(diǎn)的最有效方法之一。硅烷化的機(jī)理為:由于通用的硅醇鹽的最小動力學(xué)直徑大于沸石的孔徑,因此不能通過擴(kuò)散進(jìn)入到沸孔道內(nèi),只能與其外表面的羥基基團(tuán)反應(yīng)形成 Si-O-Si 或 Si-O-Al 鍵,致使非選擇性的活性位點(diǎn)鈍化。另外,惰性二氧化硅沉積在沸石的孔口區(qū)域,導(dǎo)口變窄或部分堵塞。CLD 與 CVD 反應(yīng)相比,其主要優(yōu)點(diǎn)是液相反應(yīng)可以更容易地應(yīng)用到大批量業(yè)生產(chǎn)中。其反應(yīng)機(jī)理如圖 1-2 所示[63]:
【學(xué)位授予單位】:江南大學(xué)
【學(xué)位級別】:碩士
【學(xué)位授予年份】:2018
【分類號】:O643.36
【參考文獻(xiàn)】
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本文編號:2701192
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