本文選題：電感耦合等離子體原子發(fā)射光譜法(ICP-AES) + 金屬陽極涂層��； 參考：《冶金分析》2017年12期

【摘要】：在500~550℃馬弗爐中采用氫氧化鉀-硝酸鉀熔融樣品1h,熱水浸出熔融物后加鹽酸酸化,選擇Ru 240.272nm、Ir 212.681nm為分析線,通過基體匹配法配制標(biāo)準(zhǔn)溶液系列消除基體效應(yīng)的影響,采用電感耦合等離子體原子發(fā)射光譜法(ICP-AES)測定溶液中釕和銥,由此建立了電感耦合等離子體原子發(fā)射光譜法測定金屬陽極涂層中釕和銥的分析方法。釕和銥在0.50~10mg/L范圍內(nèi),其校準(zhǔn)曲線線性相關(guān)系數(shù)均大于0.999;釕和銥的檢出限分別為0.03和0.09g/m~2。按照實驗方法測定金屬陽極涂層樣品中釕和銥,結(jié)果的相對標(biāo)準(zhǔn)偏差(RSD,n=10)分別為0.69%和1.5%,與原子吸收光譜法(AAS)的測定結(jié)果基本吻合。
[Abstract]:The molten sample of potassium hydroxide-potassium nitrate was prepared in a 500,550 鈩，

本文編號：1877928