發(fā)布時(shí)間：2018-03-08 14:53

  本文選題：導(dǎo)向自組裝　切入點(diǎn)：嵌段共聚物　出處：《化學(xué)進(jìn)展》2017年04期 　論文類(lèi)型：期刊論文

【摘要】：嵌段共聚物由于其在納米尺度的自組裝能力,通過(guò)在薄膜中的自組裝可以得到特征尺寸小于10nm的周期性圖形結(jié)構(gòu),近年來(lái)被廣泛研究。導(dǎo)向自組裝(Directed Self-Assembly,DSA)充分利用了嵌段共聚物在薄膜中進(jìn)行自組裝的優(yōu)點(diǎn),將"自下而上"的嵌段共聚物薄膜自組裝技術(shù)和"自上而下"的光學(xué)光刻或電子束光刻等制備導(dǎo)向圖形的技術(shù)結(jié)合起來(lái)。嵌段共聚物通過(guò)分子設(shè)計(jì)可得到層狀、柱狀、孔洞狀等形貌多樣的納米結(jié)構(gòu)。光刻模板表面的化學(xué)不均勻性使得嵌段共聚物和基底表面之間的相互作用可控,從而引導(dǎo)嵌段共聚物薄膜在一定的空間取向上定向排列。目前在導(dǎo)向自組裝中常用的兩種方法有直接在基底表面通過(guò)光刻制得前圖形模板的制圖外延法(幾何控制)和基于對(duì)光刻模板表面進(jìn)行化學(xué)修飾比如在模板表面接枝上一層中性層材料,從而通過(guò)化學(xué)誘導(dǎo)實(shí)現(xiàn)嵌段共聚物的定向自組裝的化學(xué)外延法(化學(xué)控制)。導(dǎo)向自組裝技術(shù)通過(guò)對(duì)微相結(jié)構(gòu)的裁剪、表面修飾和尺寸控制,可以得到特征尺寸更小、密度更大、有序性更好的納米圖形,正逐漸成為最有前途的先進(jìn)光刻技術(shù)方法之一。
[Abstract]:Because of its self-assembly ability at nanometer scale, block copolymers can obtain periodic graphic structures with characteristic size less than 10 nm by self-assembly in films. In recent years, it has been widely studied. Directed Self-Assembled Self-Assembled DSAs make full use of the advantages of block copolymers for self-assembly in thin films. Combining "bottom-up" block copolymer film self-assembly technology with "top-down" optical lithography or electron beam lithography to prepare oriented patterns. Block copolymers can be layered and columnar by molecular design. The chemical inhomogeneity of the surface of the lithography template makes the interaction between the block copolymer and the substrate surface controllable. At present, two methods commonly used in directional self-assembly are the drawing epitaxy method (geometric control), which is used to fabricate the pre-pattern template directly on the substrate surface by photolithography. And based on chemical modification of the surface of the lithography template, such as grafting a layer of neutral layer material on the surface of the template, Thus, the chemical epitaxy method of directional self-assembly of block copolymers by chemical induction (chemical control / self-assembly) can obtain smaller characteristic size and higher density by cutting the microphase structure, modifying the surface and controlling the size of the block copolymers. Nano-graphics with better order is becoming one of the most promising advanced lithography techniques.
【作者單位】： 北京師范大學(xué)化學(xué)學(xué)院;
【分類(lèi)號(hào)】：O631.1

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本文編號(hào)：1584368