發(fā)布時(shí)間：2023-06-23 18:52

　　重金屬?gòu)U水和難降解有機(jī)廢水治理是當(dāng)前工業(yè)廢水領(lǐng)域的兩個(gè)研究難點(diǎn),重金屬?gòu)U水中含有難降解有機(jī)物時(shí),這種廢水的治理更加困難,除需要考慮重金屬本身的去除外,還需要考慮有機(jī)物對(duì)去除效果造成的影響。含重金屬難降解有機(jī)廢水廣泛存在于電鍍、冶金、染料等廢水中。本論文以Cu2+與難降解有機(jī)物磺胺甲惡唑(Sulfamethoxazole,SMX)組成的Cu-SMX混合廢水為目標(biāo)物,采用鈦釕網(wǎng)(Ru0/Ti)陰極電化學(xué)還原先去除Cu2+,后采用活性炭纖維(Activated carbon fibre,ACF)陰極電芬頓(electro-Fenton,EF)降解SMX。在此基礎(chǔ)上,研究了 EF處理SMX的降解工藝,考察ACF界面反應(yīng)機(jī)理,進(jìn)而以強(qiáng)化礦化為目的,引入太陽(yáng)光,利用太陽(yáng)光電芬頓(Solarphotoelectro-Fenton,SPEF)工藝提高SMX的礦化率。主要成果如下:(1)電化學(xué)法同時(shí)去除混合廢水中的Cu2+及SMX研究:以Ru02/Ti作陽(yáng)極,ACF作陰極組成的一體式反應(yīng)裝置無(wú)法同時(shí)去除混合廢水中的Cu2+及SMX,ACF作陰極無(wú)論是在高純水體系中還是在SMX體系中,除銅率均很低,且不具...

【文章頁(yè)數(shù)】：103 頁(yè)

【學(xué)位級(jí)別】：碩士

【文章目錄】：
致謝
摘要
ABSTRACT
1 緒論
    1.1 引言
    1.2 含重金屬離子的難降解有機(jī)廢水的來(lái)源及危害
        1.2.1 含重金屬離子難降解有機(jī)廢水的來(lái)源
        1.2.2 含重金屬離子的難降解有機(jī)廢水的危害
    1.3 重金屬?gòu)U水的處理工藝
        1.3.1 物理法
        1.3.2 化學(xué)法
        1.3.3 生物法
        1.3.4 難降解有機(jī)廢水的處理工藝
    1.4 電化學(xué)處理工藝
        1.4.1 電絮凝技術(shù)
        1.4.2 電滲析技術(shù)
        1.4.3 電化學(xué)還原技術(shù)
        1.4.4 電化學(xué)高級(jí)氧化技術(shù)
    1.5 含銅-難降解有機(jī)廢水的處理
        1.5.1 重金屬與抗生素絡(luò)合情況
        1.5.2 磺胺甲惡唑的理化特性及其處理工藝
    1.6 研究目的、主要研究?jī)?nèi)容及技術(shù)路線
        1.6.1 研究目的
        1.6.2 研究?jī)?nèi)容
        1.6.3 技術(shù)路線
2 試驗(yàn)材料及分析方法
    2.1 實(shí)驗(yàn)藥品及儀器
        2.1.1 實(shí)驗(yàn)藥品及材料
        2.1.2 實(shí)驗(yàn)儀器
    2.2 實(shí)驗(yàn)裝置
    2.3 實(shí)驗(yàn)方法
    2.4 分析方法
3 電化學(xué)還原/氧化協(xié)同去除廢水中重金屬及有機(jī)物
    3.1 電化學(xué)法同時(shí)去除廢水中重金屬及有機(jī)物方法研究
        3.1.1 ACF陰極電化學(xué)還原法除銅效果
        3.1.2 ACF陰極電化學(xué)氧化法降解SMX效果
    3.2 電化學(xué)法先去除重金屬后降解有機(jī)物方法研究
        3.2.1 RuO₂/Ti陰極電化學(xué)除銅效果
        3.2.2 RuO₂/Ti陰極電化學(xué)體系降解SMX效果
        3.2.3 RuO₂/Ti陰極還原法除銅后ACF陰極電芬頓法降解SMX
    3.3 本章小結(jié)
4 電芬頓法處理含SMX廢水及其反應(yīng)機(jī)理研究
    4.1 電芬頓處理SMX廢水
        4.1.1 Fe²⁺濃度對(duì)電芬頓處理SMX廢水的影響
        4.1.2 電流強(qiáng)度對(duì)電芬頓處理SMX廢水的影響
        4.1.3 pH對(duì)電芬頓處理SMX廢水的影響
    4.2 ACF表面性質(zhì)
    4.3 ACF界面還原H₂O₂機(jī)理研究
        4.3.1 電流強(qiáng)度對(duì)H₂O₂產(chǎn)量的影響
        4.3.2 pH對(duì)H₂O₂產(chǎn)量的影響
        4.3.3 電/類電芬頓條件下H₂O₂的產(chǎn)量變化
    4.4 ACF界面產(chǎn)·OH機(jī)理研究
        4.4.1 Cu²⁺/Cu⁺類電芬頓產(chǎn)·OH
        4.4.2 Fe²⁺/Fe³⁺電芬頓產(chǎn)·OH
    4.5 本章小結(jié)
5 太陽(yáng)光電芬頓過(guò)程強(qiáng)化降解SMX研究
    5.1 不同電化學(xué)過(guò)程對(duì)SMX的降解比較
    5.2 光電芬頓對(duì)SMX的降解
    5.3 本章小結(jié)
6 結(jié)論與展望
    6.1 結(jié)論
    6.2 展望
參考文獻(xiàn)
作者簡(jiǎn)歷及攻讀碩士/博士學(xué)位期間取得的研究成果
學(xué)位論文數(shù)據(jù)集



本文編號(hào)：3835127