病毒模板法作為新興的納米材料合成方法,已有二十年的發(fā)展歷程,合成和分析技術日漸成熟,在目前的研究中備受關注。以病毒模板合成的金屬納米材料具有良好的穩(wěn)定性、分散性及生物相容性,其在催化、光學、電學、磁學及超導等領域有優(yōu)異的表現(xiàn)。利用病毒模板法合成金屬納米材料時,模板蛋白可為金屬離子提供沉積位點,在固定位置與金屬離子配位結(jié)合,根據(jù)模板結(jié)構(gòu)的選擇性可控合成納米材料,同時由于病毒模板自身的空間位阻效應,會有效的阻止金屬納米粒子團聚。而且,模板病毒在自然界中含量豐富,易于制備,來源廣泛,可大幅降低制備成本。半導體光催化技術是指可以在溫和條件下,將光能轉(zhuǎn)化為化學能,進行氧化還原反應的一種技術。近年來,因其極高的反應活性和催化效率及對催化底物的無選擇性得以迅速發(fā)展,已成為目前在處理環(huán)境污染問題上最具應用前景的技術之一。本文利用病毒模板法合成了半導體光催化材料TMV-CdS,使其兼具病毒模板的結(jié)構(gòu)優(yōu)勢以及納米尺寸CdS的獨特性質(zhì),對比其與無模板合成CdS的表觀和性能差別,再將TMV-CdS應用于染料亞甲基藍的降解,以及其產(chǎn)光生電子對微生物生長及與染料的共同作用中。通過透射電子顯微鏡、能譜分析、X射線衍... 

【文章來源】：東北林業(yè)大學黑龍江省 211工程院校 教育部直屬院校

【文章頁數(shù)】：56 頁

【學位級別】：碩士

【部分圖文】：

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■■■■ｍｉ??圖２－２?ＴＭＶ－ＣｄＳ的透射電子顯微鏡圖像??注：ａ：放大倍數(shù)２００００?Ｘ，標尺２００?ｎｍ；?ｂ：放大倍數(shù)４００００?Ｘ，標尺〗００?ｎｍ??Ｆｉｇ．２－２?Ｔｈｅ?ｔｒａｎｓｍｉｓｓｉｏｎ?ｅｌｅｃｔｒｏｎ?ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ?ｉｍａｇｅ?ｏｆ?ＴＭＶ－ＣｄＳ??Ｎｏｔｅ：?ａ：?Ｔｈｅ?ｅｎｌａｒｇｅｍｅｎｔ?ｆａｃｔｏｒ?ｉｓ?２００００?ｘ，?ｓｃａｌｅ?ｉｓ?２００?ｎｍ；?ｂ：?Ｔｈｅ?ｅｎｌａｒｇｅｍｅｎｔ?ｆａｃｔｏｒ?ｉｓ?４００００?ｘ，?ｓｃａｌｅ?ｉｓ??１００?ｎｍ??Ｕｔｅｇｓ！?Ｂ－ｔ?Ａｔｏｍｉｃ?＊？??ＣＫ?８０￣０?８９４０??ＯＫ?０�？０�??０５．００??１１?－?ＮａＫ?０８３０?０４．８０??（?ＳＫ?００．７０?００．３０??ＣＫ?（?ＣｄＬ?Ｑ４ｉ０?００５０??？Ｌ？?ｉ??ＫＣｎｔｌ??＜Ｊ．？」??丨?｜?Ｍ？Ｋ??ｉｂ＇?七＇?ｉ??０．００?？－００?４．００?６．００?６．００?１０．００?ｉ？．０Ｑ?Ｕ．?


本文編號：3500400