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半絕緣砷化鎵拋光片生產(chǎn)中含砷廢水的處理方案與效能研究

發(fā)布時(shí)間:2021-07-11 04:48
  隨著經(jīng)濟(jì)的快速發(fā)展,我國水污染事件呈現(xiàn)愈演愈烈的態(tài)勢。特別是對于產(chǎn)生含有重金屬離子廢水的企業(yè),一旦廢水不能達(dá)標(biāo)排放,就會對地表水體水質(zhì)產(chǎn)生不可逆的不良影響。本文以某材料有限公司半絕緣砷化鎵拋光片生產(chǎn)中產(chǎn)生的含砷廢水為研究對象,在對現(xiàn)有含砷廢水處理系統(tǒng)調(diào)查分析的基礎(chǔ)上,對于含砷廢水處理工藝進(jìn)行了深入研究,以期待生產(chǎn)廢水能夠穩(wěn)定達(dá)標(biāo)排放。首先,對于對該企業(yè)生產(chǎn)工藝的分析,識別出產(chǎn)生生產(chǎn)廢水的主要節(jié)點(diǎn),發(fā)現(xiàn)含砷廢水來源主要為有多晶清洗(W1)、單晶清洗(W2)、晶體加工(W3)、晶片導(dǎo)角(W4)、平面磨床和內(nèi)圓鋸廢水(W5)、拋光清洗廢水(W6)、酸霧洗滌廢水(W7),總產(chǎn)水量為17噸/小時(shí)。同時(shí),對于企業(yè)現(xiàn)有生產(chǎn)廢水處理工藝進(jìn)行系統(tǒng)分析,進(jìn)而辨識出現(xiàn)有處理工藝存在的問題。調(diào)查中發(fā)現(xiàn)由于切磨廢水預(yù)沉池的處理效果很差,經(jīng)常出現(xiàn)總砷濃度不能有效降至50mg/L的現(xiàn)象,導(dǎo)致進(jìn)入到處理系統(tǒng)中總砷離子濃度超過系統(tǒng)要求的進(jìn)水濃度,進(jìn)而導(dǎo)致廢水處理系統(tǒng)出水出現(xiàn)超標(biāo),超標(biāo)倍數(shù)可達(dá)五倍。為使含砷生產(chǎn)廢水可以正常達(dá)標(biāo)排放,提出了兩套升級改造方案,分別為方案一“多種藥劑多次投加除砷+過濾器/反滲透系統(tǒng)除鹽廢水處理... 

【文章來源】:哈爾濱工業(yè)大學(xué)黑龍江省 211工程院校 985工程院校

【文章頁數(shù)】:73 頁

【學(xué)位級別】:碩士

【部分圖文】:

半絕緣砷化鎵拋光片生產(chǎn)中含砷廢水的處理方案與效能研究


課題研究的技術(shù)路線

分析圖,產(chǎn)品生產(chǎn),分析圖,工藝


砷化鎵產(chǎn)品生產(chǎn)工藝及排污分析圖

平衡圖,含砷廢水,砷化鎵,晶片


整度及表面進(jìn)行精細(xì)加工。本工序使用的化學(xué)品為:無水乙醇(用于晶片的脫水)。本工序排放的固體廢物為 S12乙醇廢液。(10)晶片清洗 主要目的為去除前道工序加工后晶片表面殘留的塵埃及化學(xué)殘留物,再對晶片表面進(jìn)行鈍化處理。本工序使用的化學(xué)品為:氫氧化銨(用于配制晶片腐蝕液)。本工序排放的廢水主要為 W6拋光清洗廢水;固體廢物為 S9廢堿。從工藝流程以及產(chǎn)污環(huán)節(jié)的分析可以看出:砷化鎵生產(chǎn)過程中,有含砷廢水和固廢產(chǎn)生。對于本研究關(guān)注的砷元素,其可能的去向?yàn)樗h(huán)境以及土壤環(huán)境(詳見圖 3-1)。為此,有必要對含砷廢水的來源做出詳細(xì)分析。3.3.2 含砷廢水來源與排污分析工程需要原料砷 21909 千克/年,其中進(jìn)入砷化鎵產(chǎn)品中砷 16121 千克/年,進(jìn)入廢渣、廢料中的固廢砷 3208 千克/年,進(jìn)入廢水系統(tǒng)砷 2553 千克/年(包括污泥中砷 2502 千克/年、結(jié)晶砷 51 千克/年),進(jìn)入大氣砷化鎵塵 27 千克/年。重金屬砷化鎵塵 0.027 噸/年已經(jīng)由大慶市環(huán)境保護(hù)局出具總量意見。經(jīng)分析公司晶片生產(chǎn)過程砷平衡見圖 3-2。

【參考文獻(xiàn)】:
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本文編號:3277369

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