新型鎳基材料的設(shè)計制備及其對砷的吸附性能研究
【學(xué)位授予單位】:山東理工大學(xué)
【學(xué)位級別】:碩士
【學(xué)位授予年份】:2019
【分類號】:X703
【圖文】:
山東理工大學(xué)碩士學(xué)位論文 第二章 鎳鋁層狀氧化物的制備及其對水溶液中砷的去除分別為 11.9、11.5、11.0、10.8 和 10.5。LDOx的 pHPZC隨著煅燒溫度的升高而逐漸降低。當(dāng) pH 低于 pHPZC時,NiAl-LDH 和 NiAl-LDOx的表面帶正電荷,這有利于在其表面上與帶有帶負(fù)電荷的陰離子形成強(qiáng)絡(luò)合物。
分配系數(shù)(Kd)用于評估吸附劑對吸附物的親和力。從圖2.8 可以看出隨著固液比的增加,Kd值的變化很小,表明 NiAl-LDH 和 NiAl-LDO500的 Kd值與固/液比的相關(guān)性非常小,這與分配系數(shù)的物理化學(xué)性質(zhì)一致。NiAl-LDO500的 Kd值高于 NiAl-LDH,表明 NiAl-LDO500對 As(V)具有更高的親和力。圖 2.8 吸附劑含量對吸附容量的影響Fig. 2.8 Effect of adsorbent contents on the adsorption ofAs(V) on NiAl-LDH and NiAl-LDO500(C0=40.0 mg/L, pH 5.0 ± 0.1, and T = 298 K)
500溶液 pH 從 6.0 增加到 12.0 而緩慢降低,最后維持在較低的吸附容量。這可能歸因于NiAl-LDH 和 NiAl-LDO500的表面電荷性質(zhì)以及 As(V)在水溶液中的不同存在形式。圖 2.9b 清楚地顯示,pH < 7.0 時 H2AsO42-是 As(V)在水溶液的主要存在形式,而在pH>7 時,HAsO42-和 AsO43-成為主要存在形式。然后通過 Zeta 電勢儀表征了材料表面的零點電勢,如圖 2.6d 所示,NiAl-LDH 和 NiAl-LDO500的 pHPZC分別為 11.9 和10.8。在 pH < 11.9 時,NiAl-LDH 的表面電勢為正,這有利于 NiAl-LDH 與 As(V)離子的結(jié)合。在 pH<10.8 時,NiAl-LDO500的表面電勢為正,這有利于 NiAl-LDO500與As(V)離子的結(jié)合。因此,當(dāng) pH<pHPZC時,表面帶正電勢的 NiAl-LDH 和 NiAl-LDO50與帶負(fù)電荷的 As(V)之間存在靜電吸引,所以 NiAl-LDH 和 NiAl-LDO500對 As(V)具有巨大的去除效率。除了相互作用受靜電吸引力控制,化學(xué)吸附也可能對 As(V)去除有很大的作用[68]。在 pH > pHPZC時,NiAl-LDH 和 NiAl-LDO500的表面電勢隨著 p的增加而降低,高 pH 值時表面電勢變?yōu)樨?fù)電荷。由于表面帶負(fù)電勢的 NiAl-LDH 和NiAl-LDO500與帶負(fù)電荷的 HAsO42-和 AsO43-之間存在靜電斥力,吸引力減弱,所以高 pH
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