本文選題：碳熱還原 + 含銦渣��； 參考：《中國有色金屬學報》2016年06期

【摘要】：在常壓下研究碳熱還原氧化銦的動力學。結(jié)果表明:增大碳與含銦渣的質(zhì)量比或提高反應溫度,銦還原率增大。當反應溫度為1523 K,碳與含銦渣質(zhì)量比為0.5、反應時間為60 min時,含銦渣銦的還原揮發(fā)率達到85.21%;在常壓下,碳與含銦渣質(zhì)量比達到0.5,含銦渣平均粒度是80μm,石墨顆粒平均度約為30μm,反應溫度在1373~1523 K區(qū)間內(nèi),碳熱還原含銦渣的還原揮發(fā)速率由界面化學反應所控制,其表觀活化能為168.67 kJ/mol。
[Abstract]:The results show that the reduction rate of indium is increased by increasing the mass ratio of carbon and indium residue or increasing the reaction temperature. When the reaction temperature is 1523 K, the mass ratio of carbon and indium residue is 0.5 and the reaction time is 60 min, the reduction and volatilization rate of indium and indium containing indium is 85.21%, and the quality of carbon and indium residue at atmospheric pressure. The average particle size of indium containing slag is 80 mu m, the average degree of graphite particles is about 30 mu m and the reaction temperature is within the 1373~1523 K interval. The reduction volatilization rate of indium residue in carbon thermal reduction is controlled by interfacial chemical reaction, and its apparent activation energy is 168.67 kJ/mol..

【作者單位】： 中南大學化學化工學院;湖南工程學院機械工程學院;
【基金】：國家高技術(shù)研究發(fā)展計劃資助項目(2011AA061003)~~
【分類號】：X758;TF843.1

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本文編號：1825523