【摘要】：將粒子成像測速(PIV)技術(shù)應(yīng)用于旋轉(zhuǎn)盤反應(yīng)器,獲得了旋轉(zhuǎn)盤表面流場的瞬時(shí)速度分布,研究了操作參數(shù)(流量和轉(zhuǎn)速)對流場速度分布的影響.結(jié)果表明,從盤中心到邊緣瞬時(shí)速度先減小后增大;轉(zhuǎn)盤中心區(qū)域的速度場主要由流量控制,流體的相對徑向速度隨流量增大而增大;轉(zhuǎn)盤外緣區(qū)域的速度場主要由轉(zhuǎn)速控制,流體的相對周向速度隨轉(zhuǎn)速增大而增大;實(shí)驗(yàn)條件下臨界半徑Rc=50 mm,轉(zhuǎn)盤設(shè)計(jì)半徑應(yīng)適當(dāng)大于臨界半徑.
[Abstract]:The particle imaging velocimetry (PIV) technique was applied to the rotating disk reactor. The instantaneous velocity distribution of the flow field on the surface of the rotating disk was obtained. The influence of the operating parameters (flow rate and speed) on the velocity distribution of the flow field was studied. The results show that the instantaneous velocity from the center of the disc to the edge decreases first and then increases, the velocity field in the center of the disc is mainly controlled by the flow rate, the relative radial velocity of the fluid increases with the increase of the flow rate, and the velocity field in the outer edge of the disc is mainly controlled by the rotational speed. The relative circumferential velocity of the fluid increases with the increase of the rotational speed, and the design radius of the rotary disc should be properly larger than the critical radius under the experimental conditions of the critical radius of Rc=50 mm.
【作者單位】： 中北大學(xué)超重力化工過程山西省重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室;
【分類號】：TQ051.1

【參考文獻(xiàn)】

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【共引文獻(xiàn)】

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【二級參考文獻(xiàn)】

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本文編號：2153751