RCS地坪測試場關鍵電磁問題分析研究
發(fā)布時間:2017-10-01 07:41
本文關鍵詞:RCS地坪測試場關鍵電磁問題分析研究
更多相關文章: RCS及RCS測試 地坪場 低散射金屬支架 標準體 環(huán)境電平
【摘要】:RCS測試是飛行器隱身性能定量評估的關鍵手段。地面靜態(tài)RCS測試外場是能夠獲取全尺寸飛行器等軍事裝備電磁隱身性能的重要測試場所。本論文的工作主要是結合地面靜態(tài)RCS測試外場建設的需要,理論分析測試外場影響目標RCS測量的一些關鍵電磁問題:目標窗口電磁場分布分析、目標支架結構與其散射特性分析、環(huán)境電平分析和標準體設計及地坪場RCS測試流程設計。論文的具體研究工作包括:(1)完成了對目標測試窗口電磁照射有關問題的分析研究,具體工作包括如下內容:室外地坪場增益原理分析、地面反射系數理論計算與建模仿真、均勻與非均勻照射下地面對目標窗口電磁場分布的影響問題、分別模擬了兩款天線高、低增益照射下非均勻照射情況對目標窗口電磁場分布的影響以及對目標RCS值影響問題。論文設計了高空目標窗口場強均勻性、地面反射系數測試方案,并完成了C波段檢波器設計制作。(2)應用矩量法計算了多款簡單二維幾何結構(與低散射金屬支架截面相關)的RCS,從截面和外形兩個角度出發(fā)分析設計出了具有最低后向散射特性的橄欖球狀橫截面金屬支架,并研究了降低金屬支架與目標之間耦合問題的方法。(3)詳細分析設計并加工出了滿足地坪場目標RCS測試精度要求的定標體,并采用實際監(jiān)測環(huán)境電平方法對外場環(huán)境電平進行分析研究。本論文的研究工作可以對RCS地坪測試場的建設以及測試精度鑒定提供參考。
【關鍵詞】:RCS及RCS測試 地坪場 低散射金屬支架 標準體 環(huán)境電平
【學位授予單位】:電子科技大學
【學位級別】:碩士
【學位授予年份】:2015
【分類號】:V218;O441.4
【參考文獻】
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1 李啟鵬;王和平;孫珍;付偉;;鴨翼電磁散射特性分析與RCS減縮方法研究[J];航空計算技術;2010年03期
,本文編號:952162
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