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基于襯底溫度和貝葉斯估計(jì)的紅外非均勻性校正(英文)

發(fā)布時(shí)間:2017-09-30 21:23

  本文關(guān)鍵詞:基于襯底溫度和貝葉斯估計(jì)的紅外非均勻性校正(英文)


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【摘要】:分析了紅外焦平面陣列(IRFPA)基于定標(biāo)的非均勻性校正法(NUC)和基于場(chǎng)景的NUC算法各自的優(yōu)勢(shì)和問(wèn)題,在此基礎(chǔ)上提出了聯(lián)合非均勻性校正方法。根據(jù)上電時(shí)刻焦平面襯底的溫度值,從FLASH中提取事先存儲(chǔ)的對(duì)應(yīng)溫度區(qū)間的增益和偏置校正參數(shù),初步消除探測(cè)器的非均勻性。通過(guò)分析初步校正后圖像殘余非均勻性噪聲的特性,提出了一種自適應(yīng)非均勻性校正算法NSCT,對(duì)經(jīng)過(guò)NSCT分解后的子帶圖像,利用貝葉斯閾值逐點(diǎn)進(jìn)行信號(hào)方差和噪聲方差估計(jì),計(jì)算出殘余非均勻性噪聲后并加以去除。實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明,該算法能有效提高校正精度,并具有更強(qiáng)的環(huán)境適應(yīng)性。
【作者單位】: 中國(guó)科學(xué)院長(zhǎng)春光學(xué)精密機(jī)械與物理研究所;中國(guó)科學(xué)院大學(xué);
【關(guān)鍵詞】紅外焦平面陣列 聯(lián)合非均勻性校正 基底溫度 非下采樣Contourlet變換 貝葉斯閾值
【基金】:Jilin Key Scientific and Technological Project(20140204030GX) Key Science&Technology Brainstorm Project of Changchun(14KG011)
【分類號(hào)】:TN21;TP391.41
【正文快照】: In recent years,infrared thermal imaging technology has been widely applied into the fields such as na-tional defense,medical science and forest fire prevention,etc.However,due to the manufacturing processand other factors,infr

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5 湯新;王鳳賀;;非均勻性處理算法[A];第二屆紅外成像系統(tǒng)仿真測(cè)試與評(píng)價(jià)技術(shù)研討會(huì)論文集[C];2008年

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中國(guó)博士學(xué)位論文全文數(shù)據(jù)庫(kù) 前2條

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2 李慶;基于成像制導(dǎo)狀態(tài)的自適應(yīng)IRFPA非均勻性校正技術(shù)研究[D];西安電子科技大學(xué);2006年

中國(guó)碩士學(xué)位論文全文數(shù)據(jù)庫(kù) 前10條

1 姬皓婷;紅外圖像非均勻性參數(shù)測(cè)試與校正系統(tǒng)研究[D];南京理工大學(xué);2004年

2 謝忠敏;基于場(chǎng)景的紅外焦平面陣列非均勻性校正研究[D];西華大學(xué);2008年

3 廖振興;激光薄膜光學(xué)常數(shù)和膜厚均勻性的研究[D];華中科技大學(xué);2005年

4 鄭瑞紅;基于場(chǎng)景的紅外圖像非均勻性校正[D];南京理工大學(xué);2004年

5 于春娜;電阻陣列非均勻性自適應(yīng)校正技術(shù)研究[D];哈爾濱工業(yè)大學(xué);2012年

6 李曉陽(yáng);基于智能計(jì)算的紅外圖像非均勻性校正方法研究[D];電子科技大學(xué);2013年

7 龔曼曼;基于場(chǎng)景的非均勻性校正[D];南京理工大學(xué);2012年

8 丁召潔;基于場(chǎng)景運(yùn)動(dòng)分析的紅外焦平面陣列的非均勻性校正研究[D];西華大學(xué);2008年

9 徐海潔;90nm NAND Flash技術(shù)中多晶硅線均勻性制程的改善方案[D];上海交通大學(xué);2008年

10 張鵬;紅外成像非均勻性校正技術(shù)研究[D];北方工業(yè)大學(xué);2009年



本文編號(hào):950481

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