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精密數(shù)控拋光碳化硅表面去除特性研究(英文)

發(fā)布時(shí)間:2017-09-30 20:44

  本文關(guān)鍵詞:精密數(shù)控拋光碳化硅表面去除特性研究(英文)


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【摘要】:計(jì)算機(jī)數(shù)控精密機(jī)械拋光技術(shù)是制造高精度、高質(zhì)量光學(xué)元件表面的主要技術(shù)之一。然而,對(duì)于碳化硅材料表面去除特性方面的研究卻相對(duì)較少。在航天航空領(lǐng)域中,陶瓷類材料碳化硅的應(yīng)用較為廣泛。針對(duì)計(jì)算機(jī)數(shù)控精密機(jī)械拋光技術(shù),根據(jù)一系列的拋光實(shí)驗(yàn),研究并總結(jié)出碳化硅材料表面的去除機(jī)理;谶x擇不同等級(jí)的四種變量參數(shù):拋光磨頭轉(zhuǎn)速、拋光壓力、磨頭補(bǔ)償量和拋光頭角度,分析碳化硅材料表面的去除趨勢(shì)。采用Taguchi方法可以有效優(yōu)化實(shí)驗(yàn)設(shè)計(jì)參數(shù)、減少實(shí)驗(yàn)整體次數(shù)。結(jié)果表明:文中總結(jié)出對(duì)應(yīng)的拋光參數(shù)組合和材料表面的去除特性,確保加工出高質(zhì)量表面的碳化硅材料。
【作者單位】: 長(zhǎng)春理工大學(xué)光電工程學(xué)院;香港理工大學(xué)工業(yè)及系統(tǒng)工程學(xué)系超精密加工技術(shù)國(guó)家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室伙伴實(shí)驗(yàn)室;
【關(guān)鍵詞】精密拋光 表面質(zhì)量 去除特性 碳化硅
【基金】:廣東省引進(jìn)創(chuàng)新團(tuán)隊(duì)項(xiàng)目(201001G0104781202)
【分類號(hào)】:TN305.2
【正文快照】: 0 Introduction1 Computer controlled polishing processSurface quality requirements of reflectors in1.1 Precision mechanical polishing of ceramicoptical systems have becomes more stringent formaterialscritical applications in the aerospace industry.InA com

【相似文獻(xiàn)】

中國(guó)期刊全文數(shù)據(jù)庫(kù) 前10條

1 王強(qiáng),李玉國(guó),石禮偉,孫海波;碳化硅材料發(fā)光特性研究進(jìn)展[J];微納電子技術(shù);2003年02期

2 郭磊,寧叔帆,于開坤,李紅巖,趙麗華,劉斌,陳壽田;碳化硅非線性導(dǎo)電特性的研究進(jìn)展[J];絕緣材料;2005年03期

3 李玉增;半導(dǎo)體碳化硅的研究現(xiàn)狀與應(yīng)用前景[J];稀有金屬;1995年03期

4 宋登元;;碳化硅材料的特性、制備及其應(yīng)用[J];半導(dǎo)體光電;1992年03期

5 趙世璽,徐伏秋,史尚釗;碳化硅質(zhì)量對(duì)微波加熱的影響[J];洛陽(yáng)工業(yè)高等?茖W(xué)校學(xué)報(bào);1995年04期

6 陳治明;碳化硅電力電子器件及其制造工藝新進(jìn)展[J];半導(dǎo)體學(xué)報(bào);2002年07期

7 Bart van Schravendijk ,Mahesh Sanganeria,蔡堅(jiān);低k/碳化硅材料與銅互連線的工藝整合[J];電子產(chǎn)品世界;2003年06期

8 劉肅,唐瑩,李思淵;碳化硅材料在微電子機(jī)械系統(tǒng)中的應(yīng)用[J];微納電子技術(shù);2002年08期

9 張弘;;淺談碳化硅零部件機(jī)械加工工藝[J];黑龍江科技信息;2013年28期

10 陳思員;姜貴慶;俞繼軍;歐東斌;;碳化硅材料被動(dòng)氧化機(jī)理及轉(zhuǎn)捩溫度分析[J];宇航材料工藝;2009年03期

中國(guó)重要會(huì)議論文全文數(shù)據(jù)庫(kù) 前2條

1 楊玉s,

本文編號(hào):950326


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