本文關(guān)鍵詞：納米集成電路互連線建模和光刻仿真中的大規(guī)模并行計(jì)算方法

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【摘要】：集成電路規(guī)模龐大、結(jié)構(gòu)復(fù)雜,隨著集成電路制造工藝進(jìn)入納米尺度,復(fù)雜制造工藝中的工藝波動(dòng)嚴(yán)重影響電路性能,給集成電路設(shè)計(jì)帶來了巨大的挑戰(zhàn).集成電路互連線建模與光刻仿真涉及大規(guī)模Maxwell方程的數(shù)值求解,計(jì)算復(fù)雜度高、規(guī)模龐大.本文主要綜述了在973項(xiàng)目資助下,基于中國科學(xué)院科學(xué)與工程計(jì)算國家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室陳志明教授提出的并行自適應(yīng)有限元理論及大規(guī)模并行計(jì)算平臺(tái)PHG發(fā)展的納米集成電路互連線建模和光刻仿真的大規(guī)模并行計(jì)算方法.在集成電路互連線建模方面,一方面,綜述了寄生電容參數(shù)提取的并行自適應(yīng)有限元方法 ParAFEMCap,該方法實(shí)現(xiàn)了可以在上百乃至上千CPU核上運(yùn)行的并行寄生電容提取,在1536 CPU核計(jì)算平臺(tái)上達(dá)到75.7%左右的并行效率;另一方面,綜述了一種結(jié)合邊界元法和隨機(jī)法的混合算法BIE-WOS,用于導(dǎo)體或介質(zhì)面電荷密度計(jì)算,該方法具有隨機(jī)法天然并行性的優(yōu)勢(shì),易于實(shí)現(xiàn)大規(guī)模并行計(jì)算,本文進(jìn)一步在5120核計(jì)算平臺(tái)上驗(yàn)證了算法近似線性的并行加速比.在光刻仿真方面,基于自適應(yīng)有限元計(jì)算框架(PHG)提出了集成電路光刻的并行自適應(yīng)仿真方法,采用各項(xiàng)異性的單軸完美匹配層方法處理散射邊界條件.
【作者單位】： 復(fù)旦大學(xué)專用集成電路與系統(tǒng)國家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室;中國科學(xué)院數(shù)學(xué)與系統(tǒng)科學(xué)研究院科學(xué)與工程計(jì)算國家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室(LSEC);
【關(guān)鍵詞】： 大規(guī)模集成電路 建模 寄生參數(shù)提取 光刻工藝 有限元方法 隨機(jī)行走方法
【基金】：國家重點(diǎn)基礎(chǔ)研究發(fā)展計(jì)劃(973計(jì)劃)(批準(zhǔn)號(hào):2011CB309701,2011CB309703) 國家高技術(shù)研究發(fā)展計(jì)劃(863計(jì)劃)(批準(zhǔn)號(hào):2012AA01A30901) 國家重點(diǎn)研發(fā)計(jì)劃高性能計(jì)算重點(diǎn)專項(xiàng)項(xiàng)目(批準(zhǔn)號(hào):2016YFB0201304) 國家自然科學(xué)基金(批準(zhǔn)號(hào):61376040,61574046,91330201,61274032,91430215,91530323,11321061) 中國科學(xué)院國家數(shù)學(xué)與交叉科學(xué)研究中心(NC MIS)資助項(xiàng)目
【分類號(hào)】：TN405
【正文快照】： 國家重點(diǎn)基礎(chǔ)研究發(fā)展計(jì)劃(973計(jì)劃)(批準(zhǔn)號(hào):2011CB309701,2011CB309703)、國家高技術(shù)研究發(fā)展計(jì)劃(863計(jì)劃)(批準(zhǔn)號(hào):2012AA01A30901)、國家重點(diǎn)研發(fā)計(jì)劃高性能計(jì)算重點(diǎn)專項(xiàng)項(xiàng)目(批準(zhǔn)號(hào):2016YFB0201304)、國家自然科學(xué)基金(批準(zhǔn)號(hào):61376040,61574046,91330201,61274032,914302

【相似文獻(xiàn)】

中國期刊全文數(shù)據(jù)庫 前1條

1 李瀚宇;周海京;廖成;;JEMS-FDTD超大規(guī)模并行計(jì)算測(cè)試[J];強(qiáng)激光與粒子束;2011年11期

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本文編號(hào)：874199