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聚酰亞胺基底金屬薄膜激光刻蝕溫度場分布

發(fā)布時(shí)間:2017-06-16 17:08

  本文關(guān)鍵詞:聚酰亞胺基底金屬薄膜激光刻蝕溫度場分布,由筆耕文化傳播整理發(fā)布。


【摘要】:為研究脈沖激光刻蝕聚酰亞胺基底鍍金屬薄膜過程,采用有限元軟件COMSOL Multiphysics構(gòu)建高斯脈沖激光輻照復(fù)合材料的2維非穩(wěn)態(tài)物理模型,通過求解熱傳導(dǎo)方程計(jì)算不同功率激光輻照金屬薄膜的溫度場分布,討論不同激光參數(shù)對刻蝕進(jìn)程的影響。模擬結(jié)果表明:刻蝕深度主要受激光功率密度的影響,且隨著金屬薄膜厚度的增加,激光刻蝕深度先減小后保持不變。在刻蝕過程中,為了更好地保護(hù)基底,應(yīng)選擇大功率短脈寬的激光參數(shù);由于銅薄膜比鋁薄膜更難刻蝕,在銅薄膜的刻蝕過程中應(yīng)選擇較大功率密度的激光。結(jié)果有助于理解激光刻蝕過程,對實(shí)際刻蝕過程有一定的指導(dǎo)意義。
【作者單位】: 蘭州理工大學(xué)材料科學(xué)與工程學(xué)院;蘭州空間技術(shù)物理研究所真空低溫技術(shù)與物理國家級重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室;
【關(guān)鍵詞】激光技術(shù) 脈沖激光 激光刻蝕 金屬薄膜 聚酰亞胺 溫度場 刻蝕深度
【基金】:國家自然科學(xué)基金(51135005) 蘭州空間技術(shù)物理研究所開放基金項(xiàng)目(合同510審支(2015)X07-005號)
【分類號】:TN249
【正文快照】: 1引言激光刻蝕也稱為激光燒蝕,是利用脈沖激光將材料表面迅速加熱氣化,達(dá)到材料局部去除的過程。它具0503009-1有高速、高精度[1]、高適應(yīng)性等特點(diǎn),同時(shí)還具有非接觸、不引入應(yīng)力、熱影響區(qū)小、刻蝕面質(zhì)量好、刻蝕時(shí)無噪音、刻蝕過程容易實(shí)現(xiàn)自動(dòng)化控制等優(yōu)點(diǎn),因此激光刻蝕在

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本文編號:455952

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