本文關鍵詞：聚酰亞胺基底金屬薄膜激光刻蝕溫度場分布，由筆耕文化傳播整理發(fā)布。

【摘要】：為研究脈沖激光刻蝕聚酰亞胺基底鍍金屬薄膜過程,采用有限元軟件COMSOL Multiphysics構建高斯脈沖激光輻照復合材料的2維非穩(wěn)態(tài)物理模型,通過求解熱傳導方程計算不同功率激光輻照金屬薄膜的溫度場分布,討論不同激光參數(shù)對刻蝕進程的影響。模擬結果表明:刻蝕深度主要受激光功率密度的影響,且隨著金屬薄膜厚度的增加,激光刻蝕深度先減小后保持不變。在刻蝕過程中,為了更好地保護基底,應選擇大功率短脈寬的激光參數(shù);由于銅薄膜比鋁薄膜更難刻蝕,在銅薄膜的刻蝕過程中應選擇較大功率密度的激光。結果有助于理解激光刻蝕過程,對實際刻蝕過程有一定的指導意義。
【作者單位】： 蘭州理工大學材料科學與工程學院;蘭州空間技術物理研究所真空低溫技術與物理國家級重點實驗室;
【關鍵詞】： 激光技術 脈沖激光 激光刻蝕 金屬薄膜 聚酰亞胺 溫度場 刻蝕深度
【基金】：國家自然科學基金(51135005) 蘭州空間技術物理研究所開放基金項目(合同510審支(2015)X07-005號)
【分類號】：TN249
【正文快照】： 1引言激光刻蝕也稱為激光燒蝕,是利用脈沖激光將材料表面迅速加熱氣化,達到材料局部去除的過程。它具0503009-1有高速、高精度[1]、高適應性等特點,同時還具有非接觸、不引入應力、熱影響區(qū)小、刻蝕面質量好、刻蝕時無噪音、刻蝕過程容易實現(xiàn)自動化控制等優(yōu)點,因此激光刻蝕在

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  本文關鍵詞：聚酰亞胺基底金屬薄膜激光刻蝕溫度場分布，由筆耕文化傳播整理發(fā)布。

本文編號：455952