隨著極紫外（EUV）光刻物鏡的設(shè)計(jì)朝著組合倍率物鏡系統(tǒng)的方向發(fā)展,物鏡系統(tǒng)需要同時(shí)具有大視場(chǎng)和高數(shù)值孔徑（NA）,因而產(chǎn)生了物鏡的光線入射角及入射角范圍急劇增大的問(wèn)題,需要研究適用于組合倍率極紫外光刻物鏡系統(tǒng)的膜層設(shè)計(jì)的新方法。提出了漸進(jìn)優(yōu)化膜層的設(shè)計(jì)方法,該方法提高了鍍制膜層的物鏡系統(tǒng)的反射率,保證了組合倍率物鏡系統(tǒng)的成像質(zhì)量。利用該方法對(duì)NA為0.6的組合倍率物鏡系統(tǒng)進(jìn)行了膜層設(shè)計(jì),設(shè)計(jì)結(jié)果表明,含膜極紫外光刻物鏡系統(tǒng)的平均反射率大于65%,各反射鏡的反射率峰谷值均小于3.35%,反射率均勻性良好。 

【文章來(lái)源】：光學(xué)學(xué)報(bào). 2020,40(05)北大核心EICSCD

【文章頁(yè)數(shù)】：8 頁(yè)

【部分圖文】：

多層膜厚度分布規(guī)律示意圖。

Mo/Si規(guī)整膜反射率與光線入射角的關(guān)系[4]

本文所研究的物鏡關(guān)于子午面對(duì)稱,因此對(duì)其半視場(chǎng)進(jìn)行研究即可知道整個(gè)視場(chǎng)的情況。本文所取的視場(chǎng)點(diǎn)是中心視場(chǎng)及邊緣視場(chǎng)的六個(gè)視場(chǎng)點(diǎn)。表1 優(yōu)化后組合倍率極紫外光刻物鏡系統(tǒng)的性能指標(biāo)Table 1 Performance indexes of anamorphic magnification EUV lithography objective system after optimization Parameter Specification Wavefront aberration/λ 0.05670 Wavelength /nm 13.5 Field of view /(mm×mm) 26×1 MH 4 ML 8 NA 0.6 Range of incident angle <6°


本文編號(hào)：3094868