本文選題：發(fā)射度 + 圓孔膜片透鏡　； 參考：《真空科學(xué)與技術(shù)學(xué)報(bào)》2016年05期

【摘要】：隨著真空電子器件及所用電子注尺寸的減小,發(fā)射度效應(yīng)成為器件設(shè)計(jì)過程中需要考慮的重要因素之一。圓孔膜片透鏡是組成真空電子器件的一種基本元件,本文通過理論推導(dǎo)獲得了考慮電子注發(fā)射度效應(yīng)的圓孔膜片透鏡焦距公式。首先基于圓孔膜片透鏡電位分布,對透鏡厚度進(jìn)行了界定。隨后利用透鏡區(qū)電子注邊緣電子的徑向動力學(xué)方程推導(dǎo)了電子的傍軸軌跡方程,通過對該方程的數(shù)學(xué)變換獲得了考慮電子注發(fā)射度效應(yīng)的圓孔膜片透鏡焦距公式。最后以平行圓柱流Pierce槍陽孔為例,分析了典型強(qiáng)流細(xì)束電子注不同導(dǎo)流系數(shù)、發(fā)射度和半徑下透鏡焦距的變化,與經(jīng)驗(yàn)修正結(jié)果符合較好。
[Abstract]:With the decrease of the vacuum electronic device and the size of the electron beam used, emittance effect becomes one of the important factors to be considered in the design of the device. Circular diaphragm lens is one of the basic components of vacuum electronic device. In this paper, the focal length formula of circular hole diaphragm lens considering the emittance effect of electron beam is derived theoretically. The thickness of the lens is defined based on the potential distribution of the diaphragm lens. Then the paraxial trajectory equation of the electron is derived by using the radial dynamic equation of electron beam edge electron in the lens region. The focal length formula of circular diaphragm lens considering the emissivity effect of electron beam is obtained by the mathematical transformation of the equation. Finally, taking the parallel cylindrical flow Pierce gun as an example, the variation of lens focal length under different conductivity, emittance and radius of a typical high current beam electron beam is analyzed, which is in good agreement with the empirical correction results.
【作者單位】： 西北核技術(shù)研究所高功率微波技術(shù)重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室;西安交通大學(xué)電子與信息工程學(xué)院;
【分類號】：TN103

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本文編號：1907276