本文選題：空間環(huán)境　切入點：帶電粒子　出處：《光電工程》2016年02期

【摘要】：在空間環(huán)境中運行的激光系統(tǒng)必須遭受帶電粒子的輻照,光學薄膜往往是激光系統(tǒng)中最薄弱的環(huán)節(jié),其性能和穩(wěn)定性易受帶電粒子輻照的影響。我們采用離子束濺射法制備了1 064 nm單波段雙面增透膜樣品,測得1 064nm處透射率為99.964 5%,吸收為50 ppm,用低能質(zhì)子和電子(40 Ke V)模擬空間帶電粒子輻照樣品,輻照通量為1.8×10~(13)個/cm~2,輻照引起樣品1 064 nm處透射率下降362 ppm,吸收增加5 ppm;退火處理后,樣品的光學性能恢復。結(jié)合SRIM程序模擬計算和分析,提出膜層內(nèi)空位損傷是引起薄膜1 064 nm處光學性能退化的原因。
[Abstract]:A laser system operating in a space environment must be irradiated by charged particles, and optical thin films are often the weakest link in a laser system. The properties and stability of the films are easily affected by the irradiation of charged particles. We have prepared 1064nm single-band double-sided antireflection films by ion beam sputtering. At 1 064nm, the transmittance is 99.964 and the absorption is 50 ppm.The irradiated samples are simulated with low-energy protons and electron ions 40Ke V). The radiation flux is 1.8 脳 10 ~ (13) / cm ~ (-2). The transmittance of the sample decreases by 362ppm at 1064nm, and the absorption increases by 5 ppm after annealing. Based on the simulation and analysis of the SRIM program, it is suggested that the damage of the vacancy in the film is the cause of the degradation of the optical properties at 1 064 nm.
【作者單位】： 中國科學院光電技術(shù)研究所;中國科學院大學;
【分類號】：TN24

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本文編號：1697213