退火對熔石英表面損傷修復(fù)點(diǎn)損傷增長的影響
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【摘要】:研究不同參數(shù)退火處理的熔石英表面損傷修復(fù)點(diǎn)再次損傷及損傷增長時(shí)的形貌和損傷增長率的差異,同時(shí)與未退火的基底及修復(fù)點(diǎn)的損傷增長行為對比.結(jié)果表明:未退火的修復(fù)點(diǎn)再次損傷后,損傷點(diǎn)周圍的裂紋會(huì)在應(yīng)力的作用下繼續(xù)擴(kuò)展,導(dǎo)致更加嚴(yán)重、尺寸更大的損傷點(diǎn);當(dāng)退火處理將修復(fù)點(diǎn)周圍應(yīng)力導(dǎo)致的光程差控制在25 nm左右時(shí),雖損傷增長速率較快,但可有效抑制裂紋擴(kuò)展.同時(shí)研究結(jié)果也表明只要退火過程能將修復(fù)點(diǎn)周圍應(yīng)力導(dǎo)致的光程差控制在10 nm以下,其損傷增長率與基底的損傷增長率沒有明顯差異,從而可以有效控制修復(fù)點(diǎn)的損傷增長速率.研究結(jié)果可為分析應(yīng)力對修復(fù)點(diǎn)損傷增長的影響、指導(dǎo)退火參數(shù)的優(yōu)化提供參考.
【作者單位】: 西南科技大學(xué)-中國工程物理研究院激光聚變研究中心極端條件物質(zhì)特性聯(lián)合實(shí)驗(yàn)室;中國工程物理研究院激光聚變研究中心;電子科技大學(xué)物理電子學(xué)院;
【基金】:國家自然科學(xué)基金青年科學(xué)基金(批準(zhǔn)號:61505170,61505171) 國家自然科學(xué)基金委員會(huì)-中國工程物理研究院聯(lián)合基金(批準(zhǔn)號:U1530109) 西南科技大學(xué)自然科學(xué)基金(批準(zhǔn)號:13zx7120)資助的課題~~
【分類號】:TN249;O346.5
【正文快照】: 1引言熔石英光學(xué)元件是高功率固體激光裝置,如美國的國家點(diǎn)火裝置、法國的兆焦耳裝置和中國的神光-III中的重要組成部分[1].目前先進(jìn)的制造和拋光工藝(如磁流變拋光[2])以及后處理工藝(如氫氟酸刻蝕[3])在很大程度上提升了元件的抗激光損傷能力.但裝置在運(yùn)行過程中仍然會(huì)出現(xiàn)
【相似文獻(xiàn)】
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,本文編號:1247607
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