本文關(guān)鍵詞：光刻膠材料中國(guó)區(qū)域?qū)＠F(xiàn)狀分析

  更多相關(guān)文章： 光刻膠材料 中國(guó)區(qū)域 專(zhuān)利分析

【摘要】：近年來(lái),我國(guó)光刻膠材料的市場(chǎng)規(guī)模大幅增長(zhǎng)。本文對(duì)光刻膠材料中國(guó)區(qū)域的專(zhuān)利申請(qǐng)的現(xiàn)狀進(jìn)行了分析,梳理了專(zhuān)利申請(qǐng)總體趨勢(shì)、地域分布、申請(qǐng)人構(gòu)成、主要申請(qǐng)人、專(zhuān)利申請(qǐng)的法律狀態(tài)等情況,以期為我國(guó)光刻膠材料企業(yè)的發(fā)展提供一定的參考。
【作者單位】： 國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局專(zhuān)利局光電部;知識(shí)產(chǎn)權(quán)出版社咨詢(xún)培訓(xùn)中心;
【關(guān)鍵詞】： 光刻膠材料 中國(guó)區(qū)域 專(zhuān)利分析
【分類(lèi)號(hào)】：TN305.7;G306
【正文快照】： 一、引言作為微電子技術(shù)核心的集成電路制造技術(shù)是電子工業(yè)最重要的基礎(chǔ),其發(fā)展之快、更新之速,是其他任何產(chǎn)業(yè)都無(wú)可比擬的[1]。而在集成電路微細(xì)加工過(guò)程中,光刻工藝又是集成電路制造的關(guān)鍵工藝步驟,其中關(guān)鍵的材料——光刻膠(photoresist)又稱(chēng)光致抗蝕劑,是一種感光性高分

【相似文獻(xiàn)】

中國(guó)期刊全文數(shù)據(jù)庫(kù) 前10條

1 ;180nm及更深技術(shù)中去除過(guò)度注入光刻膠的干剝離工藝(英文)[J];半導(dǎo)體技術(shù);2003年05期

2 穆啟道;曹立新;;光刻技術(shù)的發(fā)展與光刻膠的應(yīng)用[J];集成電路應(yīng)用;2003年06期

3 潘家立;陶玉柱;;光刻膠之關(guān)鍵技術(shù)[J];集成電路應(yīng)用;2003年06期

4 鄭金紅;;光刻膠的發(fā)展及應(yīng)用[J];精細(xì)與專(zhuān)用化學(xué)品;2006年16期

5 Laird MacDowell;;光刻膠使用量預(yù)測(cè)與庫(kù)存[J];集成電路應(yīng)用;2007年08期

6 沈熙磊;;2010年全球光刻膠銷(xiāo)售11.5億美元未來(lái)3年將保持4.7%的年增長(zhǎng)率[J];半導(dǎo)體信息;2011年04期

7 許箭;陳力;田凱軍;胡睿;李沙瑜;王雙青;楊國(guó)強(qiáng);;先進(jìn)光刻膠材料的研究進(jìn)展[J];影像科學(xué)與光化學(xué);2011年06期

8 張世權(quán);朱斌;顧霞;;不同襯底材料對(duì)光刻膠剖面的影響[J];電子與封裝;2013年08期

9 山峰孝,中村洋一,黃子倫;光學(xué)曝光用光刻膠的種類(lèi)及其特性[J];微電子學(xué);1980年02期

10 錢(qián)石南;光刻膠照相鍍鉻法[J];光學(xué)技術(shù);1980年04期

中國(guó)重要會(huì)議論文全文數(shù)據(jù)庫(kù) 前10條

1 韓婷婷;李波;李玉香;王卿璞;;超臨界CO_2微乳液對(duì)高濃度離子注入光刻膠的清洗[A];第七屆中國(guó)功能材料及其應(yīng)用學(xué)術(shù)會(huì)議論文集（第6分冊(cè)）[C];2010年

2 王力元;;193nm光刻膠用光產(chǎn)酸劑研制[A];集成電路配套材料研討會(huì)及參展資料匯編[C];2004年

3 許箭;王雙青;楊國(guó)強(qiáng);;新型雙酚A系列光刻膠的極紫外光刻研究[A];第十三屆全國(guó)光化學(xué)學(xué)術(shù)討論會(huì)論文集[C];2013年

4 王力元;王文君;張改蓮;;193nm光刻膠適用硫摀鹽光產(chǎn)酸劑的合成及性質(zhì)[A];全面建設(shè)小康社會(huì)：中國(guó)科技工作者的歷史責(zé)任——中國(guó)科協(xié)2003年學(xué)術(shù)年會(huì)論文集（上）[C];2003年

5 穆啟道;;我國(guó)超凈高純?cè)噭┖凸饪棠z的現(xiàn)狀與發(fā)展[A];電子專(zhuān)用化學(xué)品高新技術(shù)與市場(chǎng)研討會(huì)論文集[C];2004年

6 楊景華;賈少霞;李超波;夏洋;王守國(guó);;常壓射頻介質(zhì)阻擋等離子體去除光刻膠前后的FTIR分析[A];第十六屆全國(guó)等離子體科學(xué)技術(shù)會(huì)議暨第一屆全國(guó)等離子體醫(yī)學(xué)研討會(huì)會(huì)議摘要集[C];2013年

7 鄒應(yīng)全;;在MEMS加工中光刻膠的應(yīng)用[A];2014第十五屆中國(guó)輻射固化年會(huì)論文集[C];2014年

8 柯旭;巫文強(qiáng);王躍川;;用于玻璃刻蝕的新型光刻膠[A];2006年全國(guó)高分子材料科學(xué)與工程研討會(huì)論文集[C];2006年

9 許箭;陳力;王雙青;楊國(guó)強(qiáng);;含雙酚A骨架結(jié)構(gòu)分子玻璃化合物的制備及其在極紫外光刻中的應(yīng)用[A];中國(guó)化學(xué)會(huì)第28屆學(xué)術(shù)年會(huì)第11分會(huì)場(chǎng)摘要集[C];2012年

10 張曄;陳迪;張金婭;朱軍;劉景全;;UV-LIGA中光源波長(zhǎng)和曝光量對(duì)SU-8光刻膠微結(jié)構(gòu)的影響[A];中國(guó)微米、納米技術(shù)第七屆學(xué)術(shù)會(huì)年會(huì)論文集（一）[C];2005年

中國(guó)重要報(bào)紙全文數(shù)據(jù)庫(kù) 前10條

1 本報(bào)記者 趙艷秋;光刻膠行業(yè)：“刻”不容緩[N];中國(guó)電子報(bào);2002年

2 記者 李大慶;我第一條百?lài)嵓?jí)高檔光刻膠生產(chǎn)線投產(chǎn)[N];科技日?qǐng)?bào);2009年

3 北京科華微電子材料有限公司董事長(zhǎng)兼總經(jīng)理 陳昕;多方努力尋求高檔光刻膠突破[N];中國(guó)電子報(bào);2009年

4 盈如;永光建立世界級(jí)光刻膠供貨商地位[N];電子資訊時(shí)報(bào);2005年

5 本報(bào)記者 王莉;技術(shù)創(chuàng)新領(lǐng)跑微電子材料[N];蘇州日?qǐng)?bào);2005年

6 吳堅(jiān);緊跟電子信息業(yè)發(fā)展步伐[N];中國(guó)化工報(bào);2003年

7 蘇州瑞紅電子化學(xué)品有限公司技術(shù)部部長(zhǎng) 顧奇;TFT用感光材料國(guó)內(nèi)外技術(shù)懸殊國(guó)內(nèi)化學(xué)品企業(yè)努力追趕[N];中國(guó)電子報(bào);2009年

8 本文由永光化學(xué)電處技術(shù)發(fā)展部提供;光刻膠在LED工藝上的使用技術(shù)[N];電子資訊時(shí)報(bào);2004年

9 ;永光化學(xué)：生產(chǎn)基地漸入佳境 LED光刻膠獨(dú)樹(shù)一幟[N];中國(guó)電子報(bào);2008年

10 北京科華微電子材料有限公司董事長(zhǎng)兼總經(jīng)理 陳昕;TFT高性能光刻膠國(guó)產(chǎn)化勢(shì)在必行[N];中國(guó)電子報(bào);2009年

中國(guó)博士學(xué)位論文全文數(shù)據(jù)庫(kù) 前6條

1 周新江;基于變量分離理論的光刻成像快速計(jì)算方法研究[D];華中科技大學(xué);2015年

2 劉建國(guó);耐高溫紫外正型光刻膠和248nm深紫外光刻膠的研制[D];華中科技大學(xué);2007年

3 唐雄貴;厚膠光學(xué)光刻技術(shù)研究[D];四川大學(xué);2006年

4 魏杰;激光光盤(pán)信息記錄光刻膠的合成與感光[D];北京化工大學(xué);1998年

5 李木軍;接近式光刻仿真研究[D];中國(guó)科學(xué)技術(shù)大學(xué);2007年

6 張曉蕾;超聲提高SU-8光刻膠/金屬基底界面結(jié)合強(qiáng)度研究[D];大連理工大學(xué);2015年

中國(guó)碩士學(xué)位論文全文數(shù)據(jù)庫(kù) 前10條

1 雷國(guó)韜;曲表面光刻膠涂覆技術(shù)研究[D];長(zhǎng)春理工大學(xué);2012年

2 張放;基于紫外光刻方法構(gòu)建超疏水微納結(jié)構(gòu)及導(dǎo)電圖案[D];北京化工大學(xué);2015年

3 武磊;ZnS光學(xué)元件離子束拋光技術(shù)研究[D];西安工業(yè)大學(xué);2014年

4 林慶浩;MEMS微型氣體富集器的工藝制備研究[D];電子科技大學(xué);2014年

5 陶燾;碘化銫熒光量子點(diǎn)增強(qiáng)光刻膠光刻效果的研究[D];上海交通大學(xué);2013年

6 王瑛;紫外厚膠深光刻技術(shù)研究[D];長(zhǎng)春理工大學(xué);2010年

7 朱冬華;三苯胺多枝化合物為引發(fā)劑的光刻膠過(guò)程作用的研究與含三苯胺的化合物合成[D];蘇州大學(xué);2010年

8 馮偉;含氟氣體的去光刻膠工藝灰化率提高的研究[D];上海交通大學(xué);2007年

9 張春暉;光刻工藝中的曲面膠厚檢測(cè)[D];浙江大學(xué);2010年

10 韓婷婷;超臨界CO_2微乳液去除光刻膠的研究[D];山東大學(xué);2011年

，

本文編號(hào)：1109213