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3C-β SiC中H與He原子的相互作用以及LiNi 0.8 Co 0.2 O 2 內(nèi)Li + /Ni 2+ 混排現(xiàn)象的

發(fā)布時(shí)間:2021-01-27 00:05
  能源短缺是人類一直以來面臨的嚴(yán)峻問題。此外,大量不清潔能源的使用,造成了污染嚴(yán)重,霧霾橫行。為了找尋更加清潔、同時(shí)又廉價(jià)的能源,科學(xué)家們把目光鎖定在了可控核聚變這一能夠徹底解決人類能源危機(jī)的大工程上。而目前這一工程的最大難點(diǎn)仍然在“可控”上,而面向等離子體材料(PFMs)是“可控”的重要一環(huán)。面向等離子體材料(PFMs)面臨著從等離子體中逃離出來的高能粒子的轟擊,因此需要非常好的熱力學(xué)性能和耐輻照性。SiC材料是第三代半導(dǎo)體材料,力學(xué)性能良好,抗輻照性能也很好,是面向等離子體材料的候選材料之一;由于嬗變反應(yīng)滯留在材料內(nèi)部的H和He粒子及其之間的相互作用會(huì)極大的影響材料的性能,因此這方面的研究也是當(dāng)前熱點(diǎn)。另一方面能源轉(zhuǎn)化貯存也是一個(gè)急需解決的問題,高鎳三元鋰離子電池材料LiNi0.8Co0.15A10.05O2(NCA)性能優(yōu)良,具有工作電壓較高、自放電率低、循環(huán)壽命長(zhǎng)、無記憶效應(yīng)等優(yōu)點(diǎn),而其Li+/Ni2+混排現(xiàn)象對(duì)材料電化學(xué)性能的影響是目前科研工作者的一個(gè)研究重點(diǎn)。本文運(yùn)用密度泛函理論對(duì)3C-β SiC材料以及鋰離子電池材料的某些性質(zhì)進(jìn)行... 

【文章來源】:中國(guó)科學(xué)技術(shù)大學(xué)安徽省 211工程院校 985工程院校

【文章頁數(shù)】:72 頁

【學(xué)位級(jí)別】:碩士

【部分圖文】:

3C-β SiC中H與He原子的相互作用以及LiNi 0.8 Co 0.2 O 2 內(nèi)Li + /Ni 2+ 混排現(xiàn)象的


圖1-1?ITER設(shè)計(jì)示意圖??在上圖中我們可以看到進(jìn)行核聚變時(shí);其內(nèi)壁材料(面向等離子體材料,??

結(jié)構(gòu)圖,離子輻照,文獻(xiàn),圖像


滯留行為[27-28]。Gail和Son等人研宄了?H原f在3C-(3?SiC的行為,發(fā)現(xiàn)H??原子十分傾向于停留在C-Si鍵的反鍵位,形成一個(gè)類似H-C-Si的結(jié)構(gòu)[29-31],??如圖1-4所示。Eddin等人研宄了?He原子在3C-P?SiC中的填隙行為和遷移行為,??他們發(fā)現(xiàn)He原子在3C-p?SiC中最穩(wěn)定的位置是在Si四面體的中心位置(Tsi);??另外,他們還研究了?3C-(3?SiC中的多種缺陷(硅空位缺陷、碳空位缺陷、雙空位??缺陷等)的形成能,發(fā)現(xiàn)3C-p?SiC中C空位缺陷的形成能最低,以及He原子在??缺陷之間的遷移行為,遷移的能量壁壘大概在〇.6-1.0eV[32-34]。??I?,?Si????K95A??圖1-4?H-C-Si結(jié)構(gòu)圖,引自文獻(xiàn)丨30卜??在整個(gè)核輻照的環(huán)境下,面向等離子體材料3C-(3?SiC將會(huì)同時(shí)面對(duì)He原??子和H原子轟擊,3C-(3?SiC材料內(nèi)部會(huì)同時(shí)滯留He原子和H原子,那么H原??7??

結(jié)構(gòu)圖,原子,位置,結(jié)構(gòu)圖


序度增加了很多;除此之外,他們還發(fā)現(xiàn)H在^:-pSiC的滯留量與是否提前用??He原子福照無關(guān)[25]。??圖1-3?H離子輻照后樣品截面的TEM圖像,弓|自文獻(xiàn)丨23|??在理論計(jì)算方面,有幾個(gè)研宄組將重點(diǎn)放在了?H和He原子在3C-(3?SiC中??滯留行為[27-28]。Gail和Son等人研宄了?H原f在3C-(3?SiC的行為,發(fā)現(xiàn)H??原子十分傾向于停留在C-Si鍵的反鍵位,形成一個(gè)類似H-C-Si的結(jié)構(gòu)[29-31],??如圖1-4所示。Eddin等人研宄了?He原子在3C-P?SiC中的填隙行為和遷移行為,??他們發(fā)現(xiàn)He原子在3C-p?SiC中最穩(wěn)定的位置是在Si四面體的中心位置(Tsi);??另外,他們還研究了?3C-(3?SiC中的多種缺陷(硅空位缺陷、碳空位缺陷、雙空位??缺陷等)的形成能,發(fā)現(xiàn)3C-p?SiC中C空位缺陷的形成能最低,以及He原子在??缺陷之間的遷移行為,遷移的能量壁壘大概在〇.6-1.0eV[32-34]。??I?


本文編號(hào):3002058

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