【摘要】：為研究均勻場中負流注放電的形成過程,采用粒子模擬方法對平行平板間隙中均勻場作用下高電壓流注放電通道的形成和發(fā)展進行模擬,獲取流注形成發(fā)展過程的瞬態(tài)物理圖像和流注通道中心場強的變化圖像。模擬結果表明:電子崩向陽極發(fā)展過程中,頭部呈輻射狀發(fā)展,尾部細長,電子集中在電子崩頭部,當電子崩轉變?yōu)榱髯⒑?流注通道中形成非平衡等離子體,通道頭部和尾部局部場強增大,流注頭部存在高能電子;在流注通道內的電子數(shù)密度分布圖中觀察到流注通道存在明顯的分叉現(xiàn)象,不同氣壓和場強下通道分叉現(xiàn)象存在差異;場強一定時,流注發(fā)展速度受氣壓影響較小;氣壓一定時,隨著場強增大,高能電子出現(xiàn)時間縮短,流注發(fā)展速度明顯提高,通道中電子數(shù)密度顯著增大,電離程度加深。
[Abstract]:In order to study the formation process of negative streamer discharge in uniform field, particle simulation method was used to simulate the formation and development of high voltage streamer discharge channel under the action of uniform field in parallel plate gap. The transient physical images of the formation and development of the streamer and the changing images of the central field intensity of the streamer channel are obtained. The simulation results show that during the development of electron avalanche to anode, the head develops radially, the tail is thin and the electron is concentrated on the electron avalanche head. When the electron avalanche is converted to a streamer, a non-equilibrium plasma is formed in the flow channel. The local field intensity increases at the head and tail of the channel and there are high energy electrons in the stream head. In the electron number density distribution map of the flow channel, obvious bifurcation phenomenon is observed in the flow channel, and the channel bifurcation phenomenon is different under different pressure and field intensity, and the velocity of the flow beam development is less affected by the pressure when the field intensity is constant. When the pressure is constant, with the increase of the field strength, the emergence time of high-energy electrons is shortened, the developing speed of streamer is obviously increased, the number density of electrons in the channel increases significantly, and the degree of ionization is deepened.
【作者單位】： 西安交通大學電子物理與器件教育部重點實驗室;西北核技術研究所;
【基金】：國家自然科學基金(51277147)~~
【分類號】：TM723

【參考文獻】

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【共引文獻】

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本文編號：2423568