單晶介孔PbTiO 3 納米線制備及電輸運(yùn)特性研究
發(fā)布時(shí)間:2021-10-18 20:34
通過水熱法制備了單晶介孔鈦酸鉛(PbTiO3)納米線,利用原位透射電子顯微技術(shù)對其進(jìn)行了電輸運(yùn)性能研究。結(jié)果表明,單根介孔PbTiO3納米線表現(xiàn)出非線性、不對稱的I/V特性;小偏壓下表現(xiàn)為歐姆特性,I-V數(shù)據(jù)滿足線性關(guān)系;在較高偏壓下表現(xiàn)為肖特基發(fā)射,且ln(J)-E1/2數(shù)據(jù)滿足較好線性規(guī)律;在更高偏壓下,由于鐵電疲勞和熱發(fā)射現(xiàn)象增強(qiáng),表現(xiàn)為混合發(fā)射; PbTiO3納米線整體表現(xiàn)出良好的鐵電性能,對鐵電納米器件電學(xué)性能的調(diào)控和優(yōu)化有一定的參考意義。
【文章來源】:電子顯微學(xué)報(bào). 2020,39(01)北大核心CSCD
【文章頁數(shù)】:4 頁
【部分圖文】:
a.Log(I)-V關(guān)系曲線,對應(yīng)于I-V曲線(0-16 V)。插圖b所示為0-5 V電場范圍內(nèi),電流I與電壓V之間的關(guān)系曲線;插圖c所示為5-12 V電場范圍內(nèi),ln(J)與電場強(qiáng)度(E1/2)之間的關(guān)系曲線;插圖d所示為12-16 V電場范圍內(nèi),ln(J)與電場強(qiáng)度(E1/2)之間的關(guān)系曲線。
鈦酸鉛納米線形貌如圖1a所示,可看到,退火10 min的PTO納米線的長度約為5~15μm,直徑約為50~300 nm。從圖1b可看出,介孔的直徑約為10~20 nm,且分布較為均勻。介孔的產(chǎn)生是因?yàn)榧{米線從前鈣鈦礦相轉(zhuǎn)變?yōu)殁}鈦礦相時(shí),納米線基體密度變大,體積收縮而造成[8]。PTO納米線是單晶材料,且極化方向是沿著納米線方向[9],如圖1b中插圖。與鈦酸鉛塊體c/a值(1.064)相比,介孔鈦酸鉛納米線c/a值(1.059)更小,這可能是由于介孔的存在而導(dǎo)致。由于室溫下鈦酸鉛具有自發(fā)極化,因此介孔的正負(fù)極化面會(huì)富集極化電荷,界面電荷密度約為1020cm-3[10],進(jìn)而影響PTO納米線的電輸運(yùn)性能。2 結(jié)果與討論
為了分析PTO內(nèi)部電子的傳導(dǎo)機(jī)制,將I-V數(shù)據(jù)重建為log(I)-E的函數(shù),如圖3所示。0~5 V范圍內(nèi),電流I∝電壓V,如圖3b,為歐姆傳導(dǎo)機(jī)制;5~12 V范圍內(nèi),ln(J)-E1/2數(shù)據(jù)滿足較好線性規(guī)律,如圖3c,表現(xiàn)為肖特基熱電子發(fā)射機(jī)制;12~16 V區(qū)間內(nèi)ln(J)-E1/2數(shù)據(jù)表現(xiàn)較為離散,如圖3d,考慮到鐵電疲勞和熱發(fā)射電子的影響,此階段為混合發(fā)射機(jī)制。圖3 a.Log(I)-V關(guān)系曲線,對應(yīng)于I-V曲線(0-16 V)。插圖b所示為0-5 V電場范圍內(nèi),電流I與電壓V之間的關(guān)系曲線;插圖c所示為5-12 V電場范圍內(nèi),ln(J)與電場強(qiáng)度(E1/2)之間的關(guān)系曲線;插圖d所示為12-16 V電場范圍內(nèi),ln(J)與電場強(qiáng)度(E1/2)之間的關(guān)系曲線。
【參考文獻(xiàn)】:
期刊論文
[1]La摻雜Ba0.67Sr0.33TiO3陶瓷高介電常數(shù)機(jī)制探討[J]. 徐靜,何波. 電子顯微學(xué)報(bào). 2019(01)
[2]MoO3納米帶在外場作用下的相變[J]. 趙鵬輝,曹凡,賈雙鳳,鄭赫,王建波,趙東山. 電子顯微學(xué)報(bào). 2017(05)
[3]壓電材料的研究新進(jìn)展[J]. 溫建強(qiáng),章力旺. 應(yīng)用聲學(xué). 2013(05)
[4]鐵電薄膜導(dǎo)電過程與機(jī)理[J]. 沈效農(nóng),王弘. 功能材料. 1996(04)
博士論文
[1]鐵電存儲(chǔ)器關(guān)鍵工藝與器件建模研究[D]. 聞心怡.華中科技大學(xué) 2011
本文編號:3443458
【文章來源】:電子顯微學(xué)報(bào). 2020,39(01)北大核心CSCD
【文章頁數(shù)】:4 頁
【部分圖文】:
a.Log(I)-V關(guān)系曲線,對應(yīng)于I-V曲線(0-16 V)。插圖b所示為0-5 V電場范圍內(nèi),電流I與電壓V之間的關(guān)系曲線;插圖c所示為5-12 V電場范圍內(nèi),ln(J)與電場強(qiáng)度(E1/2)之間的關(guān)系曲線;插圖d所示為12-16 V電場范圍內(nèi),ln(J)與電場強(qiáng)度(E1/2)之間的關(guān)系曲線。
鈦酸鉛納米線形貌如圖1a所示,可看到,退火10 min的PTO納米線的長度約為5~15μm,直徑約為50~300 nm。從圖1b可看出,介孔的直徑約為10~20 nm,且分布較為均勻。介孔的產(chǎn)生是因?yàn)榧{米線從前鈣鈦礦相轉(zhuǎn)變?yōu)殁}鈦礦相時(shí),納米線基體密度變大,體積收縮而造成[8]。PTO納米線是單晶材料,且極化方向是沿著納米線方向[9],如圖1b中插圖。與鈦酸鉛塊體c/a值(1.064)相比,介孔鈦酸鉛納米線c/a值(1.059)更小,這可能是由于介孔的存在而導(dǎo)致。由于室溫下鈦酸鉛具有自發(fā)極化,因此介孔的正負(fù)極化面會(huì)富集極化電荷,界面電荷密度約為1020cm-3[10],進(jìn)而影響PTO納米線的電輸運(yùn)性能。2 結(jié)果與討論
為了分析PTO內(nèi)部電子的傳導(dǎo)機(jī)制,將I-V數(shù)據(jù)重建為log(I)-E的函數(shù),如圖3所示。0~5 V范圍內(nèi),電流I∝電壓V,如圖3b,為歐姆傳導(dǎo)機(jī)制;5~12 V范圍內(nèi),ln(J)-E1/2數(shù)據(jù)滿足較好線性規(guī)律,如圖3c,表現(xiàn)為肖特基熱電子發(fā)射機(jī)制;12~16 V區(qū)間內(nèi)ln(J)-E1/2數(shù)據(jù)表現(xiàn)較為離散,如圖3d,考慮到鐵電疲勞和熱發(fā)射電子的影響,此階段為混合發(fā)射機(jī)制。圖3 a.Log(I)-V關(guān)系曲線,對應(yīng)于I-V曲線(0-16 V)。插圖b所示為0-5 V電場范圍內(nèi),電流I與電壓V之間的關(guān)系曲線;插圖c所示為5-12 V電場范圍內(nèi),ln(J)與電場強(qiáng)度(E1/2)之間的關(guān)系曲線;插圖d所示為12-16 V電場范圍內(nèi),ln(J)與電場強(qiáng)度(E1/2)之間的關(guān)系曲線。
【參考文獻(xiàn)】:
期刊論文
[1]La摻雜Ba0.67Sr0.33TiO3陶瓷高介電常數(shù)機(jī)制探討[J]. 徐靜,何波. 電子顯微學(xué)報(bào). 2019(01)
[2]MoO3納米帶在外場作用下的相變[J]. 趙鵬輝,曹凡,賈雙鳳,鄭赫,王建波,趙東山. 電子顯微學(xué)報(bào). 2017(05)
[3]壓電材料的研究新進(jìn)展[J]. 溫建強(qiáng),章力旺. 應(yīng)用聲學(xué). 2013(05)
[4]鐵電薄膜導(dǎo)電過程與機(jī)理[J]. 沈效農(nóng),王弘. 功能材料. 1996(04)
博士論文
[1]鐵電存儲(chǔ)器關(guān)鍵工藝與器件建模研究[D]. 聞心怡.華中科技大學(xué) 2011
本文編號:3443458
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