鈦鋁(鈮)氮/碳化物(TiAl(Nb)N/C)薄膜的微觀結(jié)構(gòu)、力學(xué)性能和摩擦學(xué)行為的研究
發(fā)布時(shí)間:2021-03-22 18:06
過渡金屬氮化物和碳化物(TiAlN/C)薄膜由于具有高硬度、高熔點(diǎn)、高耐磨性、良好的熱穩(wěn)定性及化學(xué)穩(wěn)定性等優(yōu)點(diǎn),常作為表面防護(hù)涂層被廣泛應(yīng)用于機(jī)械加工、微電子器件、交通運(yùn)輸、航空航天、地質(zhì)勘探等領(lǐng)域。進(jìn)一步提高TiAlN/C薄膜的性能如高硬、高韌、低摩、耐磨以應(yīng)對更加苛刻的環(huán)境及延長服役壽命成為了研究者們一致追求的目標(biāo)。在TiAlN/C薄膜中,Al對其性能的提高起到了非常重要的作用,但Al在TiAlN和TiAlC薄膜中發(fā)揮著不同的作用:(1)Al在TiN中能顯著提高其硬度和熱穩(wěn)定性,但存在韌性偏低且其性能強(qiáng)烈依賴于Al的存在形式的問題;(2)Al在TiC中能降低其內(nèi)應(yīng)力并使改善其摩擦性能,但Al對制備和摩擦過程中薄膜中a-C含量和存在形式及其對摩擦行為的作用機(jī)理尚未探明。此外,探索其它元素對TiAlN/C薄膜的影響,將有助于進(jìn)一步提升其性能。針對TiAlN薄膜低的斷裂韌性,引入Nb進(jìn)行合金化被認(rèn)為是潛在的改善韌性的途徑,亟需開展系統(tǒng)研究。在本文中,采用磁控濺射的方法通過調(diào)節(jié)工藝參數(shù)制備了TiAlN和TiAlNbN與TiAlC和TiAlNbC薄膜,首先,結(jié)合實(shí)驗(yàn)與理論計(jì)算對比研究了TiA...
【文章來源】:吉林大學(xué)吉林省 211工程院校 985工程院校 教育部直屬院校
【文章頁數(shù)】:107 頁
【學(xué)位級別】:碩士
【部分圖文】:
元素周期表中常用的硬質(zhì)相過渡金屬元素
第一章緒論30.59(R/RTM>0.59)時(shí),將形成更為復(fù)雜的晶體結(jié)構(gòu),如圖1.3b所示的Cr23C6,在該結(jié)構(gòu)中的C原子位于三方柱和八面體間隙中。圖1.2FCC與HCP結(jié)構(gòu)堆垛示意圖。Fig.1.2SchematicdiagramofstackingFCCandHCPstructures.圖1.3B1-NaCl結(jié)構(gòu)與Cr23C6結(jié)構(gòu)示意圖[5]。Fig.1.3SchematicdiagramofNaClandCr23C6structures.
第一章緒論30.59(R/RTM>0.59)時(shí),將形成更為復(fù)雜的晶體結(jié)構(gòu),如圖1.3b所示的Cr23C6,在該結(jié)構(gòu)中的C原子位于三方柱和八面體間隙中。圖1.2FCC與HCP結(jié)構(gòu)堆垛示意圖。Fig.1.2SchematicdiagramofstackingFCCandHCPstructures.圖1.3B1-NaCl結(jié)構(gòu)與Cr23C6結(jié)構(gòu)示意圖[5]。Fig.1.3SchematicdiagramofNaClandCr23C6structures.
【參考文獻(xiàn)】:
博士論文
[1]TaC基薄膜的微觀結(jié)構(gòu)、力學(xué)性能和摩擦學(xué)行為的研究[D]. 杜蘇軒.吉林大學(xué) 2018
碩士論文
[1]微量輕元素對若干典型金屬薄膜的力學(xué)性能調(diào)控[D]. 楊麗娜.吉林大學(xué) 2019
本文編號:3094242
【文章來源】:吉林大學(xué)吉林省 211工程院校 985工程院校 教育部直屬院校
【文章頁數(shù)】:107 頁
【學(xué)位級別】:碩士
【部分圖文】:
元素周期表中常用的硬質(zhì)相過渡金屬元素
第一章緒論30.59(R/RTM>0.59)時(shí),將形成更為復(fù)雜的晶體結(jié)構(gòu),如圖1.3b所示的Cr23C6,在該結(jié)構(gòu)中的C原子位于三方柱和八面體間隙中。圖1.2FCC與HCP結(jié)構(gòu)堆垛示意圖。Fig.1.2SchematicdiagramofstackingFCCandHCPstructures.圖1.3B1-NaCl結(jié)構(gòu)與Cr23C6結(jié)構(gòu)示意圖[5]。Fig.1.3SchematicdiagramofNaClandCr23C6structures.
第一章緒論30.59(R/RTM>0.59)時(shí),將形成更為復(fù)雜的晶體結(jié)構(gòu),如圖1.3b所示的Cr23C6,在該結(jié)構(gòu)中的C原子位于三方柱和八面體間隙中。圖1.2FCC與HCP結(jié)構(gòu)堆垛示意圖。Fig.1.2SchematicdiagramofstackingFCCandHCPstructures.圖1.3B1-NaCl結(jié)構(gòu)與Cr23C6結(jié)構(gòu)示意圖[5]。Fig.1.3SchematicdiagramofNaClandCr23C6structures.
【參考文獻(xiàn)】:
博士論文
[1]TaC基薄膜的微觀結(jié)構(gòu)、力學(xué)性能和摩擦學(xué)行為的研究[D]. 杜蘇軒.吉林大學(xué) 2018
碩士論文
[1]微量輕元素對若干典型金屬薄膜的力學(xué)性能調(diào)控[D]. 楊麗娜.吉林大學(xué) 2019
本文編號:3094242
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