氧化鋅（Zinc Oxide,ZnO）,是一種具有3.37 eV的寬直接帶隙、60 meV的高激子束縛能半導(dǎo)體材料。ZnO所具有的這些獨(dú)特物理優(yōu)勢(shì)使其很容易獲得紫外激光,并適合用于制備室溫甚至更高溫度下的高效受激發(fā)射器件。近年來(lái),ZnO半導(dǎo)體材料的紫外光電特性,尤其是激光特性一直備受國(guó)內(nèi)外研究學(xué)者的關(guān)注。盡管ZnO微米棒、納米線等具有天然的六邊形截面結(jié)構(gòu),有利于形成回音壁（Whispering gallery mode,WGM）激光,但其光學(xué)損耗也是不可避免的。如何減少微腔的光學(xué)損耗,降低激射閾值和提高激光的強(qiáng)度及品質(zhì)因子,就成為一個(gè)很有意義的研究課題。隨著等離激元光子學(xué)（Plasmonics）的發(fā)展,表面等離激元增強(qiáng)半導(dǎo)體材料的發(fā)光性能引起了人們的廣泛關(guān)注。入射光引起的金屬納米結(jié)構(gòu)表面自由電子的集體振蕩,能夠?qū)⒐鈭?chǎng)能量高度局域在金屬結(jié)構(gòu)表面,并表現(xiàn)出極強(qiáng)的近場(chǎng)增強(qiáng)特性。石墨烯類金屬的特點(diǎn)同樣使其具有表面等離子特性,而且石墨烯表面等離子體可以通過(guò)摻雜及電壓調(diào)控等方式進(jìn)行調(diào)節(jié),有著更廣泛的應(yīng)用前景。利用金屬、石墨烯材料這一奇特的物理效應(yīng),能夠有效提升ZnO材料本征發(fā)光效率,并設(shè)計(jì)和構(gòu)建基... 

【文章來(lái)源】：東南大學(xué)江蘇省 211工程院校 985工程院校 教育部直屬院校

【文章頁(yè)數(shù)】：134 頁(yè)

【學(xué)位級(jí)別】：博士

【文章目錄】：
摘要
Abstract
第一章 緒論
    1.1 ZnO的基本性質(zhì)與研究背景介紹
    1.2 ZnO晶體結(jié)構(gòu)與能帶結(jié)構(gòu)
    1.3 ZnO制備方法
    1.4 ZnO紫外發(fā)光
    1.5 表面等離激元概述
        1.5.1 金屬表面等離激元
        1.5.2 石墨烯表面等離激元
    1.6 表面等離激元應(yīng)用
    1.7 論文選題依據(jù)與研究?jī)?nèi)容
第二章 ZnO微納結(jié)構(gòu)和Plasmon材料制備與表征測(cè)試
    2.1 ZnO微納結(jié)構(gòu)與Plasmon材料制備
    2.2 實(shí)驗(yàn)樣品表征
    2.3 實(shí)驗(yàn)樣品測(cè)試
    2.4 本章小結(jié)
第三章 Au表面等離激元引入BM效應(yīng)增強(qiáng)ZnO紫外發(fā)光
    3.1 研究背景
    3.2 Au/ZnO微米碟的制備
    3.3 Au表面等離激元增強(qiáng)ZnO紫外發(fā)光
    3.4 Au表面等離激元耦合ZnO發(fā)光機(jī)理
    3.5 Au表面等離激元引入BM效應(yīng)ZnO激子發(fā)光動(dòng)力學(xué)過(guò)程
    3.6 本章小結(jié)
第四章 Graphene/Al表面等離激元協(xié)同耦合增強(qiáng)ZnO紫外激光
    4.1 研究背景
    4.2 Graphene/Al/ZnO復(fù)合微腔的制備
    4.3 Graphene/Al表面等離激元協(xié)同耦合ZnO受激輻射增強(qiáng)
    4.4 Graphene/Al表面等離激元協(xié)同耦合ZnO增強(qiáng)機(jī)理
    4.5 本章小結(jié)
第五章 Plamon耦合ZnO/Graphene/Ag復(fù)合回音壁微腔超靈敏SERS傳感
    5.1 研究背景
    5.2 ZnO/Graphene/Ag復(fù)合回音壁微腔SERS基底的構(gòu)建
    5.3 ZnO/Graphene/Ag復(fù)合回音壁微腔超靈敏SERS檢測(cè)
    5.4 ZnO/Graphene/Ag復(fù)合回音壁微腔SERS增強(qiáng)機(jī)理
    5.5 本章小結(jié)
第六章 結(jié)論與展望
    6.1 論文總結(jié)
    6.2 工作展望
參考文獻(xiàn)
博士期間發(fā)表論文及其他學(xué)術(shù)成果
致謝


【參考文獻(xiàn)】：
期刊論文
[1]Surface plasmon interference pattern on the surface of a silver-clad planar waveguide as a sub-micron lithography tool[J]. ZHU QiuXiang1,HU CanDong1,WANG WenJie2,HE Miao1,ZHOU Jun3,ZHAO LingZhi1,PENG ZhiXiang1,LI ShuTi1,ZHU Ning1 & ZHANG Yong1 1 Key Laboratory of Electroluminescent Devices of Guangdong Provincial Education Department,Institute of Optoelectronic Materials and Technology,South China Normal University,Guangzhou 510631,China;2 Jiangsu Provincial Key Laboratory of Advanced Photonic and Electronic Materials,Department of Physics,Nanjing University,Nanjing 210093,China;3 Institute of Photonics,Faculty of Science,Ningbo University,Ningbo 315211,China.  Science China（Physics,Mechanics & Astronomy）. 2011(02)



本文編號(hào)：2951429