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基于納米環(huán)狀隧道結(jié)的器件和n-Si中自旋輸運(yùn)的研究

發(fā)布時間:2020-10-16 14:33
   隨著信息技術(shù)革命的深入和大規(guī)模集成電路的發(fā)展進(jìn)入瓶頸期,自旋電子學(xué)器件以其獨(dú)特的電子自旋自由度、與現(xiàn)有半導(dǎo)體工藝的良好兼容性、低功耗、熱穩(wěn)定和較高的信噪比等優(yōu)勢,被越來越廣泛地關(guān)注,被認(rèn)為是最有可能打破摩爾定律限制的高新科技產(chǎn)業(yè),如何在這些器件中調(diào)控自旋,也成為目前人們廣泛研究的熱點(diǎn)方向。本論文中,我們以“基于納米環(huán)狀磁性隧道的器件和n-Si半導(dǎo)體中自旋流輸運(yùn)的研究”作為研究課題,充分結(jié)合目前基于磁性隧道結(jié)的自旋電子學(xué)器件發(fā)展和磁性多層膜中自旋流的探測方面的研究,尋求和探索調(diào)控電子自旋的新途徑。本論文主要分為三個部分:(1)基于核心結(jié)構(gòu)為CoFeB/MgO/CoFeB的磁性多層膜,制備了百納米量級的環(huán)形磁性隧道結(jié),通過在零磁場下垂直通入直流電流,利用自旋閥中的自旋轉(zhuǎn)移力矩效應(yīng),實(shí)現(xiàn)隧道結(jié)自由層磁矩的翻轉(zhuǎn),并以此作為純電流調(diào)控的第二代磁性隨機(jī)存取存儲器的原型器件;并通過提高電流幅度,觀察到自由層磁矩的隨機(jī)回跳現(xiàn)象,以此提出基于納米環(huán)形隧道結(jié)的真物理隨機(jī)數(shù)發(fā)生器。(2)將上述納米環(huán)狀磁性隧道結(jié)集成于共面波導(dǎo)電極中,通過向其中通入~GHz頻段的交變微波電流,探測其鐵磁共振效應(yīng)。我們發(fā)現(xiàn),在僅有自由層磁矩發(fā)生穩(wěn)恒進(jìn)動的情況下,給定磁場下,會同時觀測到相互獨(dú)立類聲學(xué)支和類光學(xué)支的進(jìn)動模式,并從微磁學(xué)模擬和定量化的受限體系自旋波駐波理論角度,分別對該現(xiàn)象進(jìn)行了解釋,認(rèn)為是環(huán)狀隧道結(jié)的內(nèi)外壁的存在,對環(huán)內(nèi)磁矩進(jìn)動形成的自旋波的傳播產(chǎn)生了限制,形成了自旋波駐波,根據(jù)波節(jié)數(shù)的不同,產(chǎn)生了同相位共振和反相位共振;诖,我們提出了雙模式微波探測器,與現(xiàn)有的基于隧道結(jié)鐵磁共振現(xiàn)象的單模式微波探測器相比,給定磁場下可以探測到兩種不同頻率的微波注入,從而使探測效率獲得極大提高。(3)基于一種全新的硅片鍵合技術(shù),我們解決了無法通過傳統(tǒng)的沉積手段生長硅薄膜的壁壘,制備了CoFeB/MgO/n-Si/Pt的垂直結(jié)構(gòu),成功將負(fù)型摻雜的n-Si插層插入鐵磁層Co Fe B和重金屬層Pt之間,通過在Co Fe B中激發(fā)鐵磁共振,根據(jù)自旋泵浦理論,使其向n-Si中泵浦純自旋流,并利用Pt中的逆自旋霍爾效應(yīng)加以探測,從而真正探究到n-Si中的純自旋流擴(kuò)散長度在不受表面散射影響的情況下,約為2.0μm,這較先前報道中水平結(jié)構(gòu)中探測到的數(shù)值增大了一倍。該研究對以后半導(dǎo)體中的自旋流擴(kuò)散的研究具有重要的指導(dǎo)意義。
【學(xué)位單位】:中國科學(xué)院大學(xué)(中國科學(xué)院物理研究所)
【學(xué)位級別】:博士
【學(xué)位年份】:2018
【中圖分類】:TB383.1;TN40
【部分圖文】:

薄膜電阻,磁矩,插圖,出現(xiàn)在


-[8]和 T. R. McGuire[9],[10]等人,從理論上對 AMR 效應(yīng)進(jìn)行AMR 效應(yīng)主要來源于塊體材料內(nèi)部的自旋軌道耦合在不同而對傳導(dǎo)電子的散射不同而造成的。性塊材過渡到薄膜水平,1993 年,M.Tondra 等人的工作與塊材相比,經(jīng)分子束外延生長的具有良好織構(gòu)的 500nm同晶向(如[001],[110],[111])所測量到的 AMR 值各不相0.2%,該體系中的最大 AMR 值出現(xiàn)在[111]晶向,可達(dá) 0隨著薄膜厚度的增加而升高,當(dāng)厚度大于 500 nm 時,AMR Rijks 等人[12]隨后從理論上加以肯定。層的鐵磁薄膜來說,AMR 的比值一般都比較小,室溫下低溫下不會超過 30%。2007 年,如圖 1-2 所示,Piotr Wi n U3As4薄膜中在 100 K 溫度下觀察到了高達(dá) 50%左右的 A驗(yàn)上觀察到的最大 AMR 值[13]。

方向圖,磁電阻,雙層膜,超晶格


4.2 K 溫度下,系統(tǒng)磁電阻隨 Fe(001)/Cr(001)超晶格中 Cr 層厚度和雙層膜的變化關(guān)系,其中磁場和電流沿[110]方向[1]。獨(dú)有偶,同年,德國 Jülich 研究中心的 Peter. Grünberg 等人[2]研究r/Fe 結(jié)構(gòu)中,當(dāng)兩層鐵磁層處于反平行態(tài)排列時,層間的反鐵磁耦,因而導(dǎo)致系統(tǒng)的磁電阻有較大提升,其比值約為 1.3%,如圖 1-鐵薄膜的磁電阻僅有 0.12%左右。意到,Grünberg 對磁電阻比值的定義與 Fert 略有差別:該工作中 ) ,而 Fert 工作中, = ( ( = )) ( = ),因 Grünberg 等人的定義方法,后者的 GMR 值甚至達(dá)到了 82%,這上通用的描述 GMR 的方法。二人憑借在 GMR 領(lǐng)域開創(chuàng)性的工作7 年的諾貝爾物理學(xué)獎,并將基于 GMR 效應(yīng)的相關(guān)器件的研究和高度。

關(guān)系曲線,難軸,易軸,異質(zhì)結(jié)


1-4. (a)和(b) Fe/Cr/Fe 異質(zhì)結(jié)分別沿磁化易軸和難軸利用 MOKE 測量的磁滯回線;(d) 分別對應(yīng)圖(a)和(b)的 GMR 值隨外加磁場的變化關(guān)系曲線[2]。隧穿磁電阻效應(yīng)和磁性隧道結(jié)上一節(jié)中我們談到兩個鐵磁層直接耦合或被其他非磁金屬層隔開,可以GMR 效應(yīng),那么我們將中間的非磁金屬層,替換成較薄的絕緣層,對電形成勢壘,會發(fā)生什么呢?早在 1975 年,法國國家應(yīng)用科學(xué)研究中心的lere 就提出,在制備的 Fe/Ge/Co“三明治”異質(zhì)結(jié)中,F(xiàn)e 和 Co 的磁矩處于反平行態(tài)時,其體系的電阻存在著差異,在 4.2K 的低溫下,體系的磁為 14%[23]。盡管作者當(dāng)時沒有給出明確的命名,但是這就是磁性隧道結(jié)將上述“三明治”結(jié)構(gòu)利用第二章所述的微加工的方法制作成圓形或橢圓等形狀的微米、納米尺度器件,就成了隧道結(jié)。而眾所周知,本征 Ge 材電性劣于一般半導(dǎo)體,而略優(yōu)于絕緣體,屬于常見的絕緣體范疇,因而
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5 陳俊芳;隧道結(jié)S_1I_1S_2I_2S_3與Quiteron[J];咸寧師專學(xué)報;1988年S1期

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10 寇昕莉;;氧化鎂磁隧道結(jié)磁電阻效應(yīng)的研究進(jìn)展[J];材料導(dǎo)報;2008年12期


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9 王品之;鐵電隧道結(jié)的界面調(diào)控[D];蘇州大學(xué);2016年

10 朱敏;含苯環(huán)功能分子隧道結(jié)的制備及其電學(xué)性能研究[D];贛南師范學(xué)院;2007年



本文編號:2843383

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