基于納米環(huán)狀隧道結(jié)的器件和n-Si中自旋輸運的研究
【學位單位】:中國科學院大學(中國科學院物理研究所)
【學位級別】:博士
【學位年份】:2018
【中圖分類】:TB383.1;TN40
【部分圖文】:
-[8]和 T. R. McGuire[9],[10]等人,從理論上對 AMR 效應進行AMR 效應主要來源于塊體材料內(nèi)部的自旋軌道耦合在不同而對傳導電子的散射不同而造成的。性塊材過渡到薄膜水平,1993 年,M.Tondra 等人的工作與塊材相比,經(jīng)分子束外延生長的具有良好織構(gòu)的 500nm同晶向(如[001],[110],[111])所測量到的 AMR 值各不相0.2%,該體系中的最大 AMR 值出現(xiàn)在[111]晶向,可達 0隨著薄膜厚度的增加而升高,當厚度大于 500 nm 時,AMR Rijks 等人[12]隨后從理論上加以肯定。層的鐵磁薄膜來說,AMR 的比值一般都比較小,室溫下低溫下不會超過 30%。2007 年,如圖 1-2 所示,Piotr Wi n U3As4薄膜中在 100 K 溫度下觀察到了高達 50%左右的 A驗上觀察到的最大 AMR 值[13]。
4.2 K 溫度下,系統(tǒng)磁電阻隨 Fe(001)/Cr(001)超晶格中 Cr 層厚度和雙層膜的變化關(guān)系,其中磁場和電流沿[110]方向[1]。獨有偶,同年,德國 Jülich 研究中心的 Peter. Grünberg 等人[2]研究r/Fe 結(jié)構(gòu)中,當兩層鐵磁層處于反平行態(tài)排列時,層間的反鐵磁耦,因而導致系統(tǒng)的磁電阻有較大提升,其比值約為 1.3%,如圖 1-鐵薄膜的磁電阻僅有 0.12%左右。意到,Grünberg 對磁電阻比值的定義與 Fert 略有差別:該工作中 ) ,而 Fert 工作中, = ( ( = )) ( = ),因 Grünberg 等人的定義方法,后者的 GMR 值甚至達到了 82%,這上通用的描述 GMR 的方法。二人憑借在 GMR 領域開創(chuàng)性的工作7 年的諾貝爾物理學獎,并將基于 GMR 效應的相關(guān)器件的研究和高度。
1-4. (a)和(b) Fe/Cr/Fe 異質(zhì)結(jié)分別沿磁化易軸和難軸利用 MOKE 測量的磁滯回線;(d) 分別對應圖(a)和(b)的 GMR 值隨外加磁場的變化關(guān)系曲線[2]。隧穿磁電阻效應和磁性隧道結(jié)上一節(jié)中我們談到兩個鐵磁層直接耦合或被其他非磁金屬層隔開,可以GMR 效應,那么我們將中間的非磁金屬層,替換成較薄的絕緣層,對電形成勢壘,會發(fā)生什么呢?早在 1975 年,法國國家應用科學研究中心的lere 就提出,在制備的 Fe/Ge/Co“三明治”異質(zhì)結(jié)中,F(xiàn)e 和 Co 的磁矩處于反平行態(tài)時,其體系的電阻存在著差異,在 4.2K 的低溫下,體系的磁為 14%[23]。盡管作者當時沒有給出明確的命名,但是這就是磁性隧道結(jié)將上述“三明治”結(jié)構(gòu)利用第二章所述的微加工的方法制作成圓形或橢圓等形狀的微米、納米尺度器件,就成了隧道結(jié)。而眾所周知,本征 Ge 材電性劣于一般半導體,而略優(yōu)于絕緣體,屬于常見的絕緣體范疇,因而
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