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多孔硅形成過程中的晶態(tài)轉(zhuǎn)變

發(fā)布時間:2018-06-18 01:53

  本文選題:多孔硅 + 單晶硅; 參考:《硅酸鹽學(xué)報》2017年01期


【摘要】:采用電化學(xué)陽極氧化法,對p型單晶硅施加30 mA/cm~2的恒定電流密度,在40%氫氟酸溶液中和氮氣保護氣氛下分別極化1、3和5 min,制備不同生長階段的多孔硅樣品,通過表面形貌觀測及微觀結(jié)構(gòu)表征,獲得從單晶硅到多孔硅形成過程所涉及的各種晶態(tài)組成的相對比例。結(jié)果表明:不同極化時間制得的單晶硅表面均形成了海綿狀均勻分布的納米孔洞結(jié)構(gòu)。在多孔硅的形成過程中,單晶硅結(jié)構(gòu)發(fā)生了顯著的晶態(tài)轉(zhuǎn)變和晶粒尺寸變化,導(dǎo)致大單晶、納米晶和無定形態(tài)并存,晶粒直徑從初期的1.41 nm減小到并保持在0.65 nm,而晶態(tài)的轉(zhuǎn)變和晶粒尺寸的變化被認(rèn)為與晶格畸變程度有關(guān)。
[Abstract]:The porous silicon samples at different growth stages were prepared by electrochemical anodic oxidation with a constant current density of 30 mA/cm~2 in 40% hydrofluoric acid solution and nitrogen atmosphere. The relative proportions of various crystal compositions involved in the formation process from monocrystalline silicon to porous silicon were obtained by surface morphology observation and microstructure characterization. The results show that the surface of monocrystalline silicon prepared at different polarization times has a spongy and uniform distribution of nano-voids. During the formation of porous silicon, the structure of monocrystalline silicon changed remarkably, resulting in the coexistence of large single crystal, nanocrystalline and amorphous. The grain diameter decreased from 1.41 nm in the initial stage to 0.65 nm, while the transformation of crystal state and the change of grain size were considered to be related to the degree of lattice distortion.
【作者單位】: 北京理工大學(xué)珠海學(xué)院材料與環(huán)境學(xué)院;廈門大學(xué)材料學(xué)院材料科學(xué)與工程系;福建省特種先進材料重點實驗室;
【基金】:國家自然科學(xué)基金項目(11372263) 福建省特種先進材料重點實驗室開放課題資助項目
【分類號】:TN304.12;TB383.4

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本文編號:2033474

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