【摘要】：大型環(huán)形拋光機的瀝青盤面磨損狀態(tài)對光學玻璃元件拋光時長有著很大程度的影響。在超精密拋光工藝中,瀝青盤面作為承載拋光液和直接參與拋光過程的介質(zhì),其表面磨損情況的變化會對光學玻璃工件的拋光時長和表面拋光質(zhì)量造成十分重大的影響。因此,對環(huán)拋機瀝青盤面的磨損狀態(tài)檢測可以掌握瀝青盤面的情況并及時對拋光工藝做相對應(yīng)的措施來優(yōu)化拋光工藝并有效縮短光學玻璃的拋光加工時長。本文針對瀝青盤面磨損狀態(tài)檢測尚未解決的難點,考慮到實際拋光加工情況,采用圖像紋理分析法來實現(xiàn)對環(huán)拋機瀝青盤面磨損狀態(tài)的便捷的非接觸式檢測。本文研究的主要內(nèi)容為:1)根據(jù)本實驗采集到的瀝青盤面圖像的情況,運用圖像灰度化、直方圖均衡化和中值濾波等圖像預(yù)處理方法對瀝青盤面圖像進行預(yù)處理。2)并在參考“尋求最大連通域”的思路上利用二值圖像運算規(guī)則將所感興趣的區(qū)域從采集到的圖像中分割提取出來。并基于Retinex理論和利用伽馬函數(shù)的獨特性質(zhì)對目標圖像進行光照分量的提取并且將光照不均勻現(xiàn)象帶來的影響降到盡可能低,以保證后續(xù)圖像紋理分析的準確性和分析數(shù)據(jù)的可信性。3)基于灰度共生矩陣理論構(gòu)造出適合于該目標圖像的灰度共生矩陣,來對圖像預(yù)處理后的瀝青盤面圖像進行相關(guān)的紋理特征參數(shù)提取處理。首先,根據(jù)瀝青盤面圖像特征和實際需求來確定出構(gòu)造灰度共生矩陣所必需的三個構(gòu)造參數(shù):灰度數(shù)量級、步長和生成方向。然后,確定并提取出瀝青盤面圖像中構(gòu)造的灰度共生矩陣的4個特征參數(shù):能量、熵、對比度和相關(guān)性,并且對這四個特征參數(shù)作統(tǒng)計和分析。找出并建立這四個特征參數(shù)與瀝青盤面磨損狀態(tài)之間的某種聯(lián)系。4)采用回歸分析方法構(gòu)建了瀝青盤面磨損狀態(tài)的檢測模型,擬合了瀝青盤面紋理特征參數(shù)與瀝青盤面磨損狀態(tài)檢測關(guān)系的數(shù)學表達式。并通過多次驗證實驗來檢驗本文提出的方法的可行性與可信性。
【學位授予單位】：電子科技大學
【學位級別】：碩士
【學位授予年份】：2019
【分類號】：TP391.41;TH69
【圖文】：

第一章 緒論重于玻璃石英和硅片的拋光方面上并取得了很多的成果[6]，所則在過去利用浸液拋光加工出了超光滑表面的精密元件所都曾經(jīng)在古典拋光法[8]的超精密拋光實驗中進行過相關(guān)的已經(jīng)開始了很多關(guān)于新拋光工藝的研究，由于環(huán)拋工藝是需要各個方面的知識技術(shù)支持，因此能真正投入工廠生產(chǎn)。而目前我國超精密平面的加工仍然主要是通過環(huán)形分離Continuous Polishing）[9]來實現(xiàn)的。圖 1-1 為我國專注于光的上海中晶企業(yè)發(fā)展有限公司所生產(chǎn)的型號為 CM6-4000

以改變拋光盤面面型，從而滿足加工要求。除此件與盤面的接觸狀態(tài)、工件的材料、工件邊緣效響。鈍化 在環(huán)拋過程中，瀝青拋光盤面會受到光學拋光液中的顆粒也會對盤面進行機械作用的“破生鈍化，其表現(xiàn)為磨損。拋光盤的磨損情況會直光學玻璃拋光表面質(zhì)量。因此，拋光盤面的磨損藝因素[36]。形拋光機的工作臺是由一個鋪有瀝青盤面的環(huán)形花崗巖材質(zhì)的校正盤及一個或兩個工件夾持盤所拋機也行開關(guān)啟動時，主電機會驅(qū)動轉(zhuǎn)臺并使的速度可以通過操作臺觸控屏幕進行控制。校正用下以一定的速度進行反方向的轉(zhuǎn)動，從而達到是為了修整瀝青盤面的面形，使得盤面的面形能性。

【參考文獻】

相關(guān)期刊論文 前10條

1 單海洋;徐學科;賀洪波;易葵;邵建達;;大口徑激光玻璃環(huán)拋光學瀝青拋光膠[J];強激光與粒子束;2013年08期

2 李昌盛;;基于多元回歸分析的鉆速預(yù)測方法研究[J];科學技術(shù)與工程;2013年07期

3 徐元利;陳學前;高海鷹;闕興華;吳文凱;劉慧琳;向勇;朱明智;;神光Ⅲ主機裝置真空靶室組件研制[J];強激光與粒子束;2012年11期

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本文編號：2723493