本文關(guān)鍵詞：氣流聚焦靜電噴霧噴射行為實驗研究

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【摘要】：為提高射流噴射的穩(wěn)定性和薄膜成型效率,設(shè)計開發(fā)了具有氣流聚焦功能的靜電噴霧裝置。仿真研究了噴霧空間電場和氣體流場的分布特性,開展了靜電噴霧實驗研究,分析了噴霧射流噴射行為,討論了靜電噴霧薄膜沉積面積和納米顆粒直徑的控制規(guī)律。結(jié)果表明,輔助氣流的加載能夠有效提高噴嘴處射流的噴射速度,促進射流拉伸細化,對減小納米顆粒直徑、提高顆粒均勻性都具有很好的促進作用。
【作者單位】： 集美輕工業(yè)學(xué)校先進制造產(chǎn)業(yè)系;廈門大學(xué)航空航天學(xué)院;
【關(guān)鍵詞】： 靜電噴霧 氣流聚焦 納米顆粒 薄膜沉積 射流行為
【基金】：國家自然科學(xué)基金資助項目(51405408) 福建省中青年教師教育科研項目(JAT160002) 廈門市科技計劃資助項目(3502Z20163005) 廈門南方海洋研究中心資助項目(15GHS019HJ03)
【分類號】：TH69
【正文快照】： 0引言靜電噴霧利用外電場拉伸溶液產(chǎn)生射流,射流在電荷排斥力的作用下產(chǎn)生破裂,經(jīng)溶劑揮發(fā)形成微納顆粒[1-2],具有可控性強、設(shè)備簡單、成本低廉等優(yōu)點[3-4],已在靜電微�；痆5]、納米材料制備[6]、藥物傳輸[7]等領(lǐng)域獲得了廣泛應(yīng)用,成為納米薄膜與微納系統(tǒng)集成制造的重要技術(shù)

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本文編號：1041212