發(fā)布時(shí)間：2021-01-16 06:28

　　基于集成電路產(chǎn)業(yè)技術(shù)創(chuàng)新過(guò)程中所具有的特點(diǎn),并考慮非管理性因素對(duì)技術(shù)創(chuàng)新效率產(chǎn)生的影響,運(yùn)用廣義三階段DEA模型評(píng)價(jià)和比較我國(guó)集成電路產(chǎn)業(yè)整體及產(chǎn)業(yè)鏈各環(huán)節(jié)技術(shù)創(chuàng)新效率及差異,并進(jìn)行投入要素的投影分析,在此基礎(chǔ)上借助Tobit回歸模型對(duì)技術(shù)創(chuàng)新效率的影響因素進(jìn)行研究。結(jié)果表明,我國(guó)集成電路產(chǎn)業(yè)整體技術(shù)創(chuàng)新效率呈上升態(tài)勢(shì),而產(chǎn)業(yè)鏈各環(huán)節(jié)除封測(cè)業(yè)因技術(shù)換擋而呈現(xiàn)"N"型發(fā)展態(tài)勢(shì)外,其余環(huán)節(jié)與產(chǎn)業(yè)整體情況相同;產(chǎn)業(yè)鏈各環(huán)節(jié)技術(shù)創(chuàng)新的投入冗余情況則各有不同,但制造業(yè)和裝備業(yè)是投入冗余較為集中的環(huán)節(jié);產(chǎn)業(yè)結(jié)構(gòu)升級(jí)加速使得當(dāng)前企業(yè)規(guī)模與技術(shù)創(chuàng)新效率呈現(xiàn)出負(fù)相關(guān)性,而企業(yè)R&D人員投入和人才密集性對(duì)技術(shù)創(chuàng)新效率分別存在消極和積極影響,可見(jiàn)效率提升的關(guān)鍵在于R&D人員的"質(zhì)"而非"量",政府支持程度則對(duì)技術(shù)創(chuàng)新效率有明顯積極作用,但企業(yè)R&D經(jīng)費(fèi)投入對(duì)技術(shù)創(chuàng)新效率的影響并不顯著,在當(dāng)前產(chǎn)業(yè)發(fā)展階段,高投入并不一定會(huì)產(chǎn)生高效率。 

【文章來(lái)源】：管理工程學(xué)報(bào). 2020,34(02)北大核心CSSCI

【文章頁(yè)數(shù)】：11 頁(yè)

【部分圖文】：

考慮非管理性因素影響視角下的企業(yè)技術(shù)創(chuàng)新活動(dòng)框架圖Figure1Frameworkofenterprisetechnologyinnovationactivitiesfromtheperspectiveofnon-managementfactors

影響集成電路產(chǎn)業(yè)技術(shù)創(chuàng)新效率的外部環(huán)境變量Figure2Externalenvironmentalvariablesaffectingtheefficiencyoftechnologicalinnovationintheintegratedcircuitindustry

中國(guó)集成電路產(chǎn)業(yè)鏈各環(huán)節(jié)技術(shù)創(chuàng)新綜合效率變化趨勢(shì)Figure5TrendofcomprehensiveefficiencyoftechnologicalinnovationinalllinksofChina"sICindustrychain鏈各環(huán)節(jié)技術(shù)創(chuàng)新效率表alinnovationinChina"sICindustrychain

【參考文獻(xiàn)】：
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