本文關(guān)鍵詞：基于專利時序數(shù)據(jù)預測技術(shù)機會的方法與實證研究

  更多相關(guān)文章： 技術(shù)機會 馬爾科夫區(qū)制轉(zhuǎn)換 半導體行業(yè)

【摘要】：本文提出一種基于專利時序數(shù)據(jù)預測技術(shù)機會的馬爾科夫區(qū)制轉(zhuǎn)換方法,并以1977年1月—2014年6月半導體行業(yè)專利時序數(shù)據(jù)為例進行實證分析。實證結(jié)果表明,半導體行業(yè)專利授權(quán)數(shù)量處于上升狀態(tài)與下降狀態(tài)的交替頻率較高,且專利授權(quán)數(shù)量處于上升狀態(tài)的持續(xù)期明顯弱于專利授權(quán)數(shù)量處于下降狀態(tài)的持續(xù)期:專利授權(quán)數(shù)量處于上升狀態(tài)的平均持續(xù)期約為4.167個月,專利授權(quán)數(shù)量處于下降狀態(tài)的平均持續(xù)期約為13.699個月。與以往研究相比,本文提出的馬爾科夫區(qū)制轉(zhuǎn)換(MRS)方法可以更準確地預測某個特定領(lǐng)域出現(xiàn)技術(shù)機會的時間窗口。
【作者單位】： 山西大學數(shù)學科學學院;山西大學管理與決策研究所;
【關(guān)鍵詞】： 技術(shù)機會 馬爾科夫區(qū)制轉(zhuǎn)換 半導體行業(yè)
【基金】：教育部人文社會科學研究項目(09YJC630146)
【分類號】：G306
【正文快照】： 1引言許多行業(yè)的技術(shù)進步和演化過程表明,新技術(shù)的出現(xiàn)可能突破已有技術(shù)發(fā)展的瓶頸,打開技術(shù)發(fā)展的機會窗口[1]。技術(shù)機會可以被定義為特定領(lǐng)域存在技術(shù)進步的可能性或潛力,它反映了企業(yè)在某個領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)技術(shù)進步所付出的代價[2-5]。由于沿著原有技術(shù)軌道進行技術(shù)改進可能在短期

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本文編號：937403