外觀專利保護設(shè)計創(chuàng)新的路徑及實踐
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更多相關(guān)文章: 設(shè)計創(chuàng)新 外觀專利 專利保護 專利布局
【摘要】:設(shè)計創(chuàng)新在企業(yè)發(fā)展中受到愈來愈多的重視,如何通過外觀設(shè)計專利更有效地保護設(shè)計創(chuàng)新,作者認為需要從戰(zhàn)略布局和專利布局角度綜合考慮,有系統(tǒng)有規(guī)劃地進行部署。而專利布局重點要考慮專利申請和專利保護的具體戰(zhàn)術(shù)策略,本文通過實踐案例說明了一些關(guān)鍵環(huán)節(jié)和注意事項。
【作者單位】: 國家知識產(chǎn)權(quán)局專利復(fù)審委員會;
【關(guān)鍵詞】: 設(shè)計創(chuàng)新 外觀專利 專利保護 專利布局
【分類號】:G306
【正文快照】: 一、設(shè)計創(chuàng)新的含義談及設(shè)計創(chuàng)新,首先要有“新”的體現(xiàn),即專利法第二條第四款提及的“新設(shè)計”。但這里的“新”并不是指對設(shè)計予以實質(zhì)性授權(quán)評價,而是對設(shè)計人員提出的設(shè)計宗旨和方向的要求,即“推陳出新”。設(shè)計應(yīng)當是在現(xiàn)有設(shè)計基礎(chǔ)上有改進,而不是已有的設(shè)計。其次要有
【相似文獻】
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10 本報記者 羅佳e,
本文編號:795486
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