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《規(guī)劃綱要》實(shí)施前后中國(guó)科技創(chuàng)新水平研究

發(fā)布時(shí)間:2023-10-12 02:29
  從研發(fā)經(jīng)費(fèi)、研發(fā)人員、論文、專利、知識(shí)密集型產(chǎn)業(yè)、創(chuàng)新型企業(yè)和機(jī)構(gòu)等6個(gè)維度,分析了《國(guó)家中長(zhǎng)期科學(xué)與技術(shù)發(fā)展規(guī)劃綱要(2006—2020年)》實(shí)施前后中國(guó)與主要?jiǎng)?chuàng)新型國(guó)家的科技創(chuàng)新水平?偨Y(jié)了中國(guó)近15年來(lái)取得的長(zhǎng)足進(jìn)步:中國(guó)成為全球第二研發(fā)投入大國(guó),高被引學(xué)者數(shù)量躍居世界第2位,高被引論文、專利申請(qǐng)和授權(quán)總量等科技產(chǎn)出快速攀升至全球首位,知識(shí)密集型產(chǎn)業(yè)規(guī)模及其出口保持快速增長(zhǎng)。揭示了中國(guó)在研發(fā)經(jīng)費(fèi)投入結(jié)構(gòu)、頂尖人才、技術(shù)競(jìng)爭(zhēng)力等方面的差距和不足:研發(fā)投入強(qiáng)度尚未跨越主要?jiǎng)?chuàng)新型國(guó)家2.5%的臨界點(diǎn),基礎(chǔ)研究投入占比仍明顯偏低;R&D研究人員數(shù)量不僅基數(shù)低而且增長(zhǎng)非常緩慢,企業(yè)研發(fā)人員占比不升反降;專利授權(quán)率長(zhǎng)期偏低,與美、日、德、韓差距明顯;創(chuàng)新活動(dòng)仍局限于少數(shù)企業(yè),創(chuàng)新型龍頭企業(yè)匱乏。提出了多元化投入、人才培養(yǎng)和集聚、關(guān)鍵核心技術(shù)供給、數(shù)量和質(zhì)量指標(biāo)并重等方面的建議。

【文章頁(yè)數(shù)】:12 頁(yè)

【文章目錄】:
1 比較方法與數(shù)據(jù)來(lái)源
2 中國(guó)科技創(chuàng)新水平變動(dòng)情況
    2.1 研發(fā)經(jīng)費(fèi)
        2.1.1 總量與強(qiáng)度
        2.1.2 來(lái)源結(jié)構(gòu)和執(zhí)行結(jié)構(gòu)
    2.2 研發(fā)人員
    2.3 科技論文產(chǎn)出
    2.4 專利產(chǎn)出
    2.5 知識(shí)密集型產(chǎn)業(yè)
    2.6 創(chuàng)新型企業(yè)和機(jī)構(gòu)
3 結(jié)論
4 建議



本文編號(hào):3853269

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