<正>專利申請是企業(yè)對自主研發(fā)的技術成果或發(fā)明創(chuàng)造進行保護的重要手段。然而,專利申請具有高度的專業(yè)性以及復雜性,并且企業(yè)對于專利權以及目前我國專利法與專利保護政策的認識不足,導致企業(yè)對專利權以及專利相關法律法規(guī)政策存在誤解。本文對企業(yè)在專利申請過程中的常見誤區(qū)做以下提示及分析,為企業(yè)正確認識專利以及專利相關法律政策提供幫助和借鑒。

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【文章目錄】：
誤區(qū)一：技術成果或發(fā)明創(chuàng)造不申請專利，也有專利權
誤區(qū)二：專利申請是保護技術成果及發(fā)明創(chuàng)造的唯一方法
誤區(qū)三：一項技術成果只能申請一類專利
誤區(qū)四：獲得專利證書就有有效的專利權
誤區(qū)五：針對原專利產(chǎn)品改進的技術方案不需再申請專利
誤區(qū)六：產(chǎn)品投入大規(guī)模生產(chǎn)后才申請專利



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