“原型”,是指“具有全新產(chǎn)品和全新工藝所有技術(shù)特征與技術(shù)性能的原始模型”,而“原創(chuàng)技術(shù)”,就是關(guān)于這一模型的系統(tǒng)知識。原創(chuàng)技術(shù)是系統(tǒng)的研究與實(shí)驗(yàn)發(fā)展(R&D)活動產(chǎn)生的技術(shù),其中科學(xué)研究(包括基礎(chǔ)研究、應(yīng)用研究)是原創(chuàng)技術(shù)的知識源泉,試驗(yàn)發(fā)展是原創(chuàng)技術(shù)的實(shí)現(xiàn)手段。因此,原創(chuàng)技術(shù)是最有可能實(shí)現(xiàn)從技術(shù)壟斷到市場競爭性壟斷的技術(shù),也是最有可能迅速提升國家國際競爭優(yōu)勢的技術(shù)。 進(jìn)入二十一世紀(jì),世界經(jīng)濟(jì)發(fā)展更加依賴于知識的生產(chǎn)、傳播與應(yīng)用,國際競爭也前移至作為科技知識之源和技術(shù)創(chuàng)新原動力的R&D 領(lǐng)域,原創(chuàng)技術(shù)業(yè)已成為推動經(jīng)濟(jì)增長的強(qiáng)大動力,與原創(chuàng)技術(shù)特別是與原創(chuàng)性產(chǎn)業(yè)核心技術(shù)和原創(chuàng)性國際主導(dǎo)技術(shù)緊密相關(guān)的發(fā)明專利,已經(jīng)成為許多國家特別是發(fā)達(dá)國家知識產(chǎn)權(quán)戰(zhàn)略的首要發(fā)展目標(biāo)和重點(diǎn)保護(hù)對象,專利保護(hù)已經(jīng)成為現(xiàn)代國家參與國際競爭的重要手段。 本文的主要研究內(nèi)容包括:研究原創(chuàng)技術(shù)定義和特征; 研究發(fā)明專利與原創(chuàng)技術(shù)的關(guān)系,分析我國專利技術(shù)的發(fā)展?fàn)顩r; 概述知識經(jīng)濟(jì)時代世界主要國家的專利戰(zhàn)略; 采用相關(guān)分析方法,對影響發(fā)明專利產(chǎn)出的關(guān)鍵因素進(jìn)行對比研究,為我國專利戰(zhàn)略的制定提供依據(jù); 提出...

【文章頁數(shù)】：57 頁

【學(xué)位級別】：碩士

【文章目錄】：
摘要
Abstract
1 引言
    1.1 研究背景、目的和意義
    1.2 相關(guān)研究概述
    1.3 論文的主要研究內(nèi)容、結(jié)構(gòu)及創(chuàng)新點(diǎn)
2 發(fā)明專利與原創(chuàng)技術(shù)
    2.1 專利與專利制度
    2.2 原創(chuàng)技術(shù)的基本特征
    2.3 發(fā)明專利與原創(chuàng)技術(shù)
    2.4 我國發(fā)明專利的現(xiàn)狀
3 知識經(jīng)濟(jì)時代的專利戰(zhàn)略
    3.1 知識經(jīng)濟(jì)時代的國際競爭
    3.2 專利戰(zhàn)略
    3.3 發(fā)達(dá)國家的專利戰(zhàn)略對我國技術(shù)進(jìn)步的影響
4 影響發(fā)明專利產(chǎn)出的因素分析
    4.1 影響發(fā)明專利產(chǎn)出的因素
    4.2 研究方法和工具
    4.3 指標(biāo)選取與數(shù)據(jù)來源
    4.4 相關(guān)分析
    4.5 提高發(fā)明專利產(chǎn)出的政策建議
5 完善專利制度實(shí)施專利戰(zhàn)略
    5.1 我國專利戰(zhàn)略概述
    5.2 實(shí)施專利戰(zhàn)略的迫切需求
    5.3 對實(shí)施專利戰(zhàn)略的政策建議
6 總結(jié)與展望
致謝
參考文獻(xiàn)
附錄攻讀學(xué)位期間發(fā)表的學(xué)術(shù)論文目錄



本文編號：3812822