通過對2010-2018年深圳市、蘇州市和沈陽市專利申請情況的統(tǒng)計(jì)分析,總結(jié)歸納這三個(gè)城市各自的專利發(fā)展特點(diǎn)。分析這三個(gè)城市各自技術(shù)創(chuàng)新與新技術(shù)發(fā)展的特點(diǎn),結(jié)果表明這三個(gè)城市的專利發(fā)展不均衡、核心專利方向不一樣、但有同質(zhì)化趨勢。根據(jù)技術(shù)發(fā)展周期理論,利用三市九年專利申請數(shù)據(jù),分別對三個(gè)城市的技術(shù)成熟度進(jìn)行計(jì)算分析,結(jié)果表明三個(gè)城市的技術(shù)創(chuàng)新趨于飽和,其中沈陽的新技術(shù)發(fā)展水平低于另外兩個(gè)城市。構(gòu)建內(nèi)生增長回歸模型,利用專利申請數(shù)據(jù),回歸分析得到不同區(qū)域的專利申請影響因素。最后,根據(jù)計(jì)算分析的結(jié)果,對不同特點(diǎn)的區(qū)域創(chuàng)新體系提出對策建議。 

【文章來源】：今日科苑. 2020,(05)

【文章頁數(shù)】：10 頁

【文章目錄】：
1. 專利申請情況分析
2.基于專利申請IPC分布的區(qū)域技術(shù)創(chuàng)新分析
3. 基于專利申請的區(qū)域創(chuàng)新能力分析
4. 專利申請的影響因素分析
5. 對策建議



本文編號：3460744