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淺析高質(zhì)量專利申請文件的撰寫

發(fā)布時間:2021-06-21 16:24
  本文從專利獨立權利要求和從屬權利要求撰寫角度出發(fā),提出高質(zhì)量專利撰寫的兩大方法和三大原則,獨立權利要求撰寫以必要技術特征為核心,通過技術特征概括法擴展權利要求的保護范圍,從屬權利要求則是通過從效果,市場,競爭對手三方面,進一步增強專利保護力度。 

【文章來源】:河南科技. 2020,(12)

【文章頁數(shù)】:3 頁

【部分圖文】:

淺析高質(zhì)量專利申請文件的撰寫


權利要求必要技術特征法撰寫流程圖

【參考文獻】:
期刊論文
[1]最高人民法院關于審理侵犯專利權糾紛案件應用法律若干問題的解釋[J].   電子知識產(chǎn)權. 2010(01)



本文編號:3241003

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