發(fā)布時間：2021-06-13 04:19

　　企業(yè)在專利認識方面主要存在幾大誤區(qū):認為獲得了專利證書就可以安枕無憂,認為研發(fā)過程中檢索一次專利就一勞永逸,認為產(chǎn)品不直接出口就不需要檢索國外專利,認為自主研發(fā)的產(chǎn)品只要沒有抄襲就不侵權,認為ODM和OEM的專利侵權風險已經(jīng)轉嫁給代工廠,認為判斷侵權侵權是專利和專利的對比,產(chǎn)品和產(chǎn)品的對比,認為不應用在產(chǎn)品上就不需要申請專利,本文針對上述問題詳細進行闡述。 

【文章來源】：河南科技. 2020,(12)

【文章頁數(shù)】：3 頁

【文章目錄】：
誤區(qū)1：獲得了專利證書就可以安枕無憂了
誤區(qū)2：研發(fā)過程中進行過一次專利檢索就一勞永逸
誤區(qū)3：產(chǎn)品不直接出口就不需要檢索國外專利
誤區(qū)4：我是自主研發(fā)的產(chǎn)品，沒有抄襲，我根本不知道有這樣的專利，所以不侵權
誤區(qū)5:OEM和ODM的專利侵權已經(jīng)轉嫁給代工廠，如果侵權了和我們沒有關系
誤區(qū)6：判斷侵權是專利和專利的對比，產(chǎn)品和產(chǎn)品的對比
誤區(qū)7：不應用在產(chǎn)品上就不需要申請專利


【參考文獻】：
期刊論文
[1]ODM模式侵權爭議[J]. 羊朵.  法人. 2016(04)



本文編號：3226980