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化學(xué)機(jī)械拋光方法專(zhuān)利技術(shù)綜述

發(fā)布時(shí)間:2021-04-14 17:09
  本文從全球及中國(guó)角度,對(duì)化學(xué)機(jī)械拋光方法專(zhuān)利的申請(qǐng)態(tài)勢(shì)及國(guó)內(nèi)外重要申請(qǐng)人的關(guān)鍵技術(shù)構(gòu)成進(jìn)行了分析,并針對(duì)磨削方法、測(cè)量與指示和磨具修整這三大分支和各二級(jí)技術(shù)分支的布局與發(fā)展情況進(jìn)行了分析。最后結(jié)合我國(guó)化學(xué)機(jī)械拋光乃至半導(dǎo)體制造工業(yè)的發(fā)展現(xiàn)狀給出了總結(jié)與建議。 

【文章來(lái)源】:河南科技. 2020,39(27)

【文章頁(yè)數(shù)】:4 頁(yè)

【部分圖文】:

化學(xué)機(jī)械拋光方法專(zhuān)利技術(shù)綜述


全球化學(xué)機(jī)械拋光專(zhuān)利歷年申請(qǐng)量

專(zhuān)利,消費(fèi)國(guó),申請(qǐng)人


從圖2可以看出,國(guó)際專(zhuān)利布局的目的地有強(qiáng)烈的地域特征,即以ICT產(chǎn)業(yè)的最大消費(fèi)國(guó)為主要的布局目的國(guó),美國(guó)既是最大的技術(shù)產(chǎn)生國(guó),也是最大的技術(shù)布局目標(biāo)國(guó),占全部專(zhuān)利的六成以上;中國(guó)和日本分列第二、三位,各占15.3%和9.09%。2.2全球主要申請(qǐng)人分析

專(zhuān)利技術(shù),公司,材料,鎂光


應(yīng)用材料公司專(zhuān)利技術(shù)構(gòu)成


本文編號(hào):3137695

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