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光刻機曝光系統(tǒng)中物鏡拋光專利分析

發(fā)布時間:2021-04-05 00:49
  光刻機是加工芯片的關鍵器件,每一個部件都要滿足高精度的設計要求,其中最基礎的一步是物鏡的加工,直接影響最后的線寬精度。本文針對全球專利數(shù)據(jù)庫中的物鏡加工中的打磨拋光技術進行了梳理,打磨拋光分為離子束拋光、磁流變拋光、拋光盤拋光和柔性介質拋光四個技術分支,分析了各個分支的占比、申請趨勢以及技術發(fā)展脈絡,以期對國內(nèi)物鏡加工的技術發(fā)展提供借鑒。 

【文章來源】:電子元器件與信息技術. 2020,4(07)

【文章頁數(shù)】:2 頁

【部分圖文】:

光刻機曝光系統(tǒng)中物鏡拋光專利分析


各技術分支申請趨勢

【參考文獻】:
期刊論文
[1]投影曝光技術在柔性折疊屏觸控電路制作中的應用與發(fā)展[J]. 李會麗,魏崇喜,李喜峰.  電子元器件與信息技術. 2020(04)
[2]14nm工藝光刻對準之異常問題與對策探討[J]. 孫德昌,宋貴才,黃羽茜.  電子元器件與信息技術. 2020(01)
[3]光刻物鏡光學零件制造關鍵技術概述[J]. 戴一帆,彭小強.  機械工程學報. 2013(17)
[4]亞微米i線和g線投影光刻物鏡研制[J]. 陳旭南,林大鍵,王效才.  微細加工技術. 1997(02)

博士論文
[1]光學鏡面離子束修形理論與工藝研究[D]. 周林.國防科學技術大學 2008



本文編號:3118814

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