本文關(guān)鍵詞：基于射頻磁控濺射法制備ZnO薄膜研究

  更多相關(guān)文章： ZnO薄膜 射頻磁控濺射 微結(jié)構(gòu) 阻變特性

【摘要】：研究射頻磁控濺射法制備ZnO薄膜,采用X射線衍射儀(XRD)和場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡(SEM)研究濺射功率、濺射時(shí)間和退火溫度對(duì)薄膜微結(jié)構(gòu)特性的影響,并分析ZnO薄膜阻變特性。實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明,沉積態(tài)薄膜擇優(yōu)取向?yàn)椤?02〉晶向,隨濺射功率和退火溫度增加,擇優(yōu)取向顯著增強(qiáng),濺射功率120 W時(shí)薄膜生長(zhǎng)速率可達(dá)4.8 nm/min,薄膜厚度92 nm的ZnO薄膜具有阻變特性且開關(guān)比可達(dá)104。
【作者單位】： 黑龍江大學(xué)黑龍江省高校電子工程重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室;黑龍江大學(xué)化學(xué)化工與材料學(xué)院;
【關(guān)鍵詞】： ZnO薄膜 射頻磁控濺射 微結(jié)構(gòu) 阻變特性
【基金】：國(guó)家自然科學(xué)基金資助項(xiàng)目(61471159) 黑龍江大學(xué)青年科學(xué)基金資助項(xiàng)目(QL201408)
【分類號(hào)】：TQ132.41;TB383.2
【正文快照】： 0引言對(duì)Zn O的研究最早可以追溯到1935年[1],六角纖鋅礦結(jié)構(gòu)Zn O作為寬帶隙化合物半導(dǎo)體(Eg=3.37 e V),其具有良好的壓電、氣敏和濕敏等優(yōu)異特性,并且其透光率可高達(dá)90%(可見光區(qū)域),可廣泛應(yīng)用于壓力傳感器、加速度傳感器、氣敏傳感器、透明電極和太陽能電池等領(lǐng)域[2-6]。近

【相似文獻(xiàn)】

中國(guó)期刊全文數(shù)據(jù)庫 前10條

1 劉增機(jī);紀(jì)全;張?jiān)?夏延致;王鳳軍;;靶基距對(duì)射頻磁控濺射法制備氟碳膜的結(jié)構(gòu)與性能影響[J];功能材料;2011年05期

2 高原;秦曉剛;郭云;劉惠濤;;射頻磁控濺射法制備聚氟薄膜及其性能研究[J];航空材料學(xué)報(bào);2009年05期

3 許寧;劉正堂;劉文婷;沈雅明;;射頻磁控濺射法制備氧化鐿薄膜[J];稀有金屬材料與工程;2007年S3期

4 邵紅紅;陳威;;射頻磁控濺射法制備二硫化鉬薄膜[J];潤(rùn)滑與密封;2007年12期

5 吳奎;劉亞麗;胡毅;;射頻磁控濺射法制備納米TiO_2薄膜的拉曼光譜分析[J];鄖陽師范高等�？茖W(xué)校學(xué)報(bào);2007年06期

6 任思雨,王英連,孫汪典,劉玉華;溶膠-凝膠法與射頻磁控濺射法制備ZnO薄膜及其表征對(duì)比[J];材料工程;2004年11期

7 夏冬林;楊晟;王樹林;趙修建;;ITO薄膜射頻磁控濺射法制備及性能研究[J];玻璃與搪瓷;2006年04期

8 倪佳苗;趙青南;王鵬;趙修建;;射頻磁控濺射法在玻璃上制備紫外吸收和透明導(dǎo)電雙功能薄膜[J];硅酸鹽學(xué)報(bào);2006年10期

9 趙麗特;葉勤;丁瑞欽;;射頻磁控濺射法制備TiO_2薄膜的拉曼光譜[J];材料導(dǎo)報(bào);2006年S1期

10 王翠鳳;邱錫榮;張雅珍;歐耿良;;射頻磁控濺射法制備含銀類鉆碳薄膜的結(jié)構(gòu)與性能[J];粉末冶金材料科學(xué)與工程;2014年01期

中國(guó)重要會(huì)議論文全文數(shù)據(jù)庫 前6條

1 肖洪地;馬洪磊;楊光;馬瑾;林兆軍;宗福建;張錫健;欒彩娜;;采用射頻磁控濺射法在Si(111)襯底上生長(zhǎng)β-Ga_2O_3薄膜[A];2006年全國(guó)功能材料學(xué)術(shù)年會(huì)專輯[C];2006年

2 曾冬梅;周海;孫金池;楊英歌;馮文然;萬漢城;盧一民;;射頻磁控濺射法制備Cd_(1-x)Zn_xTe薄膜(英文)[A];真空技術(shù)與表面工程——第九屆真空冶金與表面工程學(xué)術(shù)會(huì)議論文集[C];2009年

3 曾冬梅;周海;孫金池;楊英歌;馮文然;萬漢城;盧一民;;射頻磁控濺射法制備Cd_(1-x)Zn_xTe薄膜[A];第九屆真空冶金與表面工程學(xué)術(shù)會(huì)議論文摘要集[C];2009年

4 程曉農(nóng);劉紅飛;張志萍;屈展;;射頻磁控濺射法制備Al_2(WO_4)_3薄膜[A];TFC'07全國(guó)薄膜技術(shù)學(xué)術(shù)研討會(huì)論文摘要集[C];2007年

5 王永利;馬瑾;葛松華;馮先進(jìn);楊帆;劉汝軍;馬洪磊;;射頻磁控濺射法生長(zhǎng)Mg_(0.1)Zn_(0.9)O:Al紫外透明導(dǎo)電膜性質(zhì)研究[A];2006年全國(guó)功能材料學(xué)術(shù)年會(huì)專輯[C];2006年

6 周雪梅;杜丕一;翁文劍;韓高榮;;以射頻磁控濺射法制備的La_(0.5)Ca_(0.5)Mn_xTi_(1-x)O_3薄膜晶結(jié)構(gòu)的研究[A];TFC’03全國(guó)薄膜技術(shù)學(xué)術(shù)研討會(huì)論文摘要集[C];2003年

中國(guó)碩士學(xué)位論文全文數(shù)據(jù)庫 前10條

1 陳英娟;非真空法及射頻磁控濺射法制備CZTS材料研究[D];河北大學(xué);2015年

2 楊帆;射頻磁控濺射法制備PZT薄膜工藝與結(jié)構(gòu)性能研究[D];電子科技大學(xué);2009年

3 陳威;射頻磁控濺射法MoS_2薄膜制備研究[D];江蘇大學(xué);2008年

4 陳奇;射頻磁控濺射法制備氮摻雜氧化鋅薄膜及其性能研究[D];牡丹江師范學(xué)院;2010年

5 陳貽斌;射頻磁控濺射法制備CaWO_4:Eu~(3+)薄膜及其發(fā)光研究[D];江西理工大學(xué);2014年

6 趙海龍;射頻磁控濺射法制備類金剛石薄膜的研究[D];西北工業(yè)大學(xué);2007年

7 溫吉穎;射頻磁控濺射法制備ZrO_2薄膜及其特性研究[D];哈爾濱理工大學(xué);2012年

8 余花娃;射頻磁控濺射法制備氧化鋅薄膜及其特性的研究[D];陜西師范大學(xué);2007年

9 高振杰;射頻磁控濺射法制備ZnO:Eu~(3+)薄膜及其發(fā)光研究[D];廣東工業(yè)大學(xué);2011年

10 徐小玉;射頻磁控濺射法制備NiZnCo鐵氧體磁性薄膜的微觀組織與性能研究[D];江蘇大學(xué);2005年

，

本文編號(hào)：750745