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雙靶磁控濺射透明導(dǎo)電氧化銦錫鋯薄膜及其性能

發(fā)布時(shí)間:2017-08-09 03:24

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【摘要】:利用ITO(InSnO)靶和金屬Zr靶,采用磁控濺射法在玻璃襯底上制備了ITO和ITZO(InSnZrO)薄膜。高價(jià)金屬元素Zr的摻雜導(dǎo)致了薄膜向(400)晶面擇優(yōu)取向轉(zhuǎn)變,促使ITO薄膜具有更好的晶化程度、較低的表面粗糙度和更好的光電性能。根據(jù)處于特定介質(zhì)環(huán)境中ITO和ITZO薄膜的相對(duì)電阻變化(△R/R),ITZO薄膜顯示了比ITO薄膜更好的化學(xué)和熱穩(wěn)定性。通過鹽酸腐蝕前后的掃描電鏡和X射線光電子能譜儀測試表明,Zr的加入提高了薄膜的穩(wěn)定性,降低了氯離子穿透氧化層的能力,提高了氧化層的結(jié)構(gòu)穩(wěn)定性,大大降低了薄膜發(fā)生點(diǎn)蝕的概率。薄膜在0.1 mol/L鹽酸中的極化曲線表明,ITZO薄膜發(fā)生了自鈍化現(xiàn)象,顯示了較好的耐腐蝕性能。除了晶體結(jié)構(gòu)的影響之外,穩(wěn)定性較好的氧化鋯也提高了薄膜的化學(xué)穩(wěn)定性和熱穩(wěn)定性。
【作者單位】: 常州機(jī)電職業(yè)技術(shù)學(xué)院;常州中科常泰等離子體技術(shù)有限公司;上海交通大學(xué);
【關(guān)鍵詞】氧化銦錫 薄膜 磁控濺射 摻雜 穩(wěn)定性 耐蝕性
【基金】:江蘇省自然科學(xué)基金(BK20161201) 常州市科技支撐計(jì)劃項(xiàng)目(CE20152007) 江蘇高校品牌專業(yè)建設(shè)工程資助項(xiàng)目(PPZY2015B187) 江蘇高!扒嗨{(lán)工程”中青年學(xué)術(shù)帶頭人培養(yǎng)資助項(xiàng)目(201611)
【分類號(hào)】:TB383.2
【正文快照】: ITO(氧化銦錫InSnO)薄膜的電阻率低,可見光透過率高,作為透明導(dǎo)電電極材料常用于微電子器件中根據(jù)實(shí)際工作條件需要,微電子器件有時(shí)會(huì)用在一些苛刻環(huán)境中,比如化學(xué)環(huán)境、高溫環(huán)境等,此時(shí)ITO薄膜的電學(xué)穩(wěn)定性和使用可靠性對(duì)器件的使用壽命和性能起著關(guān)鍵的作用。盡管ITO薄膜表

【相似文獻(xiàn)】

中國期刊全文數(shù)據(jù)庫 前10條

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3 揚(yáng);磁控濺射非晶態(tài)金屬涂層[J];兵器材料科學(xué)與工程;1987年03期

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7 劉虎先;;磁控濺射節(jié)能防窺鍍膜玻璃在萊州問世[J];建材工業(yè)信息;1993年13期

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9 王福會(huì),樓翰一;影響磁控濺射不銹鋼粘附性的因素[J];材料科學(xué)進(jìn)展;1989年02期

10 黃建民;高瑞珍;;磁控濺射最佳工藝參數(shù)的研究[J];表面技術(shù);1989年04期

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6 張龍;朱健;吳t,

本文編號(hào):643335


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