本文關(guān)鍵詞：室溫下反應(yīng)磁控濺射沉積氧化鈦薄膜光學性能和力學性能研究

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【摘要】：目的通過對比不同濺射功率和氧氣分壓下氧化鈦薄膜性能的變化規(guī)律,分析其力學性能和光學性能的關(guān)系。方法在室溫條件下,采用直流反應(yīng)磁控濺射技術(shù)在K9玻璃基底上沉積TiO_2薄膜,通過紫外可見紅外分光光度計和橢偏儀對薄膜的光學特性進行分析,通過微納米壓痕技術(shù)對薄膜的力學性能進行表征。結(jié)果在給定工藝參數(shù)范圍內(nèi),薄膜的光學折射率與納米硬度和彈性模量正相關(guān),隨著濺射靶功率的增大,所制備薄膜的折射率、納米硬度和彈性模量隨之增大,而薄膜的光學帶隙則隨著濺射功率的增大而下降。同時,O_2流量對薄膜的光學性能和力學性能的影響更明顯,在較低O_2流量條件下(Q(Ar)/Q(O_2)=10/1),所制備薄膜的折射率減小而光學帶隙變大,隨著O_2流量進一步減少(Q(Ar)/Q(O2)=20/1),薄膜的折射率增大而光學帶隙減小,但薄膜的納米硬度和彈性模量隨O_2流量的減少而下降。結(jié)論磁控濺射沉積TiO_2薄膜的折射率與其光學帶隙反向相關(guān),而僅在適量氧氣條件下所制備的薄膜的力學性能與光學特性有相關(guān)性。
【作者單位】： 西安工業(yè)大學光電學院;陜西應(yīng)用物理化學研究所應(yīng)用物理化學國家級重點實驗室;
【關(guān)鍵詞】： 反應(yīng)磁控濺射 氧化鈦薄膜 折射率 納米硬度
【基金】：國家自然科學基金項目(61378050) 陜西省科技廳重點實驗室項目(2013SZS14-Z02)~~
【分類號】：TQ134.11;TB383.2
【正文快照】： Received:2016-01-22;Revised:2016-05-06Fund:Supported by the National Natural Foundation of China(61378050)and Foundation of Key Laboratory of Science and TechnologyCommission of Shaanxi Province of China(2013SZS14-Z02)近年來,Ti O2薄膜因其具有從可見到近紅

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本文編號：552330