發(fā)布時間：2024-01-16 18:09

　　離子束濺射(IBS)系統具有穩(wěn)定的沉積速率和良好的工藝重復性,然而在沉積初期其速率仍會發(fā)生變化。為研究其變化規(guī)律,采用離子束濺射技術,以Nb₂O₅和Al₂O₃為高低折射率材料,制備了中紅外波段高反膜,用傅里葉變換紅外光譜儀測試了膜層的反射率光譜曲線,采用掃描電鏡測試了膜層的斷面形貌,結果顯示膜層厚度隨著層數的增加而減小。通過光譜反演的方法,建立沉積速率隨時間呈指數變化的模型,通過優(yōu)化設計,使理論曲線與實測結果的吻合程度大大提高,均方根誤差由10%下降至1.5%。研究結果為時間監(jiān)控方式下的膜厚修正提供了參考依據。

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