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鋁、硅元素添加對TiN基薄膜組織和性能的影響

發(fā)布時間:2023-10-01 22:17
  采用物理氣相沉積(PVD)法制備TiN、Ti-Al-N和Ti-Si-N 3種薄膜,研究了鋁和硅元素添加對薄膜組織和性能的影響。結(jié)果表明:Ti-Al-N薄膜組織中Ti3AlN相存在擇優(yōu)取向,形成了粗大的柱狀晶;Ti-Si-N薄膜生成了Si3N4相,組織相對細小;Ti-Al-N薄膜的膜基結(jié)合力最小,Ti-Si-N薄膜的膜基結(jié)合力最大;Ti-Al-N薄膜的表面粗糙度最小,硬度和彈性模量最大;Ti-Si-N薄膜的摩擦因數(shù)略高于Ti-Al-N薄膜的,但二者相差很小,這應(yīng)與Ti-Si-N薄膜組織較細小且形成的Si3N4相具有一定的自潤滑性能有關(guān)。

【文章頁數(shù)】:5 頁

【文章目錄】:
0 引言
1 試樣制備與試驗方法
2 試驗結(jié)果與討論
    2.1 物相組成
    2.2 表面粗糙度
    2.3 膜基結(jié)合力
    2.4 硬度與彈性模量
    2.5 摩擦因數(shù)
3 結(jié)論



本文編號:3849538

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