基于超薄金屬膜的TCO/M/TCO三層膜具有較好的透明導(dǎo)電性能,是光電材料領(lǐng)域的研究熱點。研究表明,中間金屬層對三層膜的透明導(dǎo)電性能的影響顯著。因此,本文首先在兩種沉積速率（0.065 nm/s和0.75 nm/s）和沉積氣氛（Ar、Ar+H₂和Ar+N₂）下制備了一系列不同厚度的Ag膜;系統(tǒng)研究了沉積速率和沉積氣氛對Ag膜結(jié)構(gòu)、表面粗糙度及透明導(dǎo)電性能的影響。隨后在對單層Ag膜研究的基礎(chǔ)上,制備了SnO₂/Ag/SnO₂三層膜,探討Ag層的沉積速率和沉積氣氛對三層膜透明導(dǎo)電性能的影響。得到主要結(jié)果如下:（1）高沉積速率下制備的Ag膜晶粒尺寸大,結(jié)晶性強且表面粗糙度小。與低沉積速率下制備的Ag膜相比,高沉積速率下制備的Ag膜具有更好的導(dǎo)電性能,并且在膜厚較低時也具有更好的透光性,但是當Ag膜厚度較大時,其透光率更低。與在純Ar氣氛下制備的Ag膜相比,在Ar+H₂氣氛下制備得到的Ag膜具有更大的晶粒尺寸和粗糙的表面;在Ar+N₂氣氛下制備得到的Ag膜表面更光... 

【文章頁數(shù)】：87 頁

【學(xué)位級別】：碩士

【部分圖文】：

霍爾效應(yīng)原理圖

【參考文獻】：
期刊論文
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本文編號：3727062