Cr-Nb共摻雜VO 2 外延薄膜金屬—絕緣體轉(zhuǎn)變與溫度傳感特性研究
發(fā)布時間:2022-01-24 03:28
VO2在68℃附近發(fā)生可逆一級金屬—絕緣體相變(MIT),在相變區(qū)域伴隨著光吸收、折射率、電阻率、磁化率和比熱等物理性質(zhì)的改變。前期研究表明,VO2薄膜具有電阻溫度變化系數(shù)(TCR)高且易于和現(xiàn)代半導體工藝兼容性好等特點,有望實現(xiàn)規(guī);瘧。然而,VO2薄膜相變溫度(68℃)低、TCR曲線迴滯大、對光波長的分辨能力差等缺點和不足,大大限制其在溫度探測器和熱紅外探測器中的應用。針對上述問題,本論文采用元素共摻雜策略,探究了鉻(Cr)和鈮(Nb)兩種金屬元素共摻雜對VO2外延薄膜金屬—絕緣體相變特性的調(diào)控規(guī)律,研究了摻雜VO2外延薄膜的微結(jié)構(gòu)、溫感和光感特性,并提出了光熱探測電路的設(shè)計方案,取得了如下研究成果:(1)VO2薄膜微結(jié)構(gòu)及其金屬—絕緣體轉(zhuǎn)變的摻雜和應變調(diào)控研究。采用磁控濺射技術(shù),制備了不同摻雜比例VO2外延薄膜;利用XRD、RAMAN光譜、XPS等表征手段,研究了薄膜的晶體和電子結(jié)構(gòu),發(fā)現(xiàn)了Cr、Nb(共)摻雜不影響薄膜外延特...
【文章來源】:合肥工業(yè)大學安徽省 211工程院校 教育部直屬院校
【文章頁數(shù)】:73 頁
【學位級別】:碩士
【部分圖文】:
紅外探測器的分類Fig1.1Classificationofinfrareddetectors
第一章緒論3圖1.2(a)為相變前的單斜金紅石結(jié)構(gòu),(b)為相變后的金紅石四方結(jié)構(gòu)Fig1.2(a)Showsthemonoclinicrutilestructurebeforethephasechange,and(b)showsthequadrilateralrutilestructureafterthephasechange由圖1.2可以看出,當溫度在相變溫度以下時,VO2由四方金紅石相轉(zhuǎn)變?yōu)閱涡毕?VO2(M1)相),在單斜相中V原子沿原來的c軸自發(fā)地發(fā)生二聚化現(xiàn)象,V-V原子鏈間距變?yōu)?.62和3.16,并且釩原子中的d軌道上的電子,都一一定位在了V-V鍵上,脫離了金屬原子共有的屬性,這導致VO2不再具有金屬的導電性而呈現(xiàn)出n型半導體性質(zhì),V-V二聚導致VO2(R)相的c軸單胞加倍形成單斜晶系VO2(M1)相。在高溫時VO2為金紅石結(jié)構(gòu)(VO2(R)相),其中V原子和O原子構(gòu)成V-O八面體,V原子沿著c軸方向等間距一一排列,且排列方式呈現(xiàn)線型(如圖1.2(a)),V-V原子間距為2.85;在高溫時VO2為四方金紅石結(jié)構(gòu)(VO2(R)相),其中V原子和O原子構(gòu)成V-O八面體,V原子沿著c軸方向等間距線性排列,V-V原子間距為2.87,同時釩原子中的d電子也成為所有金屬原子所共有[22]。VO2在相變的過程中也伴隨著能帶結(jié)構(gòu)的改變。Goodenough在1972年提出了相變的能級理論[23],這種理論是基于已有的晶體場理論和分子-軌道理論的基矗如圖1.3的示意圖可以看出,價帶σ和π的能帶主要由O的2p電子態(tài)占據(jù),而V原子中的3d電子態(tài)占據(jù)了相應的導帶σ*和π*能帶。根據(jù)晶體場理論,VO2(R)相中V原子的3d電子在V-O八面體晶體場的作用下分裂為eg能級和t2g能級,其中eg能級較高,所以處于費米面以上。而t2g能級位于費米能級附近則是因為能級較低的緣故。另外可以看出,在t2g能級的基礎(chǔ)上又分裂d//態(tài)和π*態(tài)。當VO2發(fā)生相變時由等距的V-V原子鏈,變成二聚化的原子鏈,d//態(tài)將會分裂為全滿的成鍵態(tài)和空?
合肥工業(yè)大學專業(yè)碩士研究生學位論文4而使得π*能態(tài)能量升高,π*將遠離費米能級而成為空態(tài)。最終在d//態(tài)和t2g態(tài)之間產(chǎn)生帶隙,這就是從晶體場的能帶角度出發(fā)來看待VO2的MIT。由上分析可知,VO2相變的本質(zhì)就是在溫度升高或降低至相變溫度時,由于V4+離子的位置偏離,導致π*和d//軌道之間的位置產(chǎn)生變化,電子運動狀態(tài)改變,失去了連續(xù)性,進而呈現(xiàn)出金屬相向半導體相轉(zhuǎn)變的性質(zhì)[24]。圖1.3VO2金屬絕緣體轉(zhuǎn)變能帶結(jié)構(gòu)示意圖Fig1.3SchematicdiagramofbandtransitionstructureofVO2metalinsulator1.2.2二氧化釩的金屬—緣體相變特性二氧化釩在發(fā)生金屬—絕緣體轉(zhuǎn)變后,其電學特性和光學特性都會發(fā)生劇烈的變化。1.2.2.1二氧化釩的光學特性二氧化釩金屬-絕緣體相變過程中,光學性能會發(fā)生顯著的劇烈變化[25][26]。其中表現(xiàn)最明顯的就是光學透過率會發(fā)生顯著變化。如圖1.3所示為VO2薄膜分別在90℃和20℃下的光學透過率曲線?梢詮膱D中清楚地看到,不管是在高溫還是低溫狀態(tài)下,波長在300nm以下,也就是在紫外光波段,薄膜的光學透過率都是非常低的,幾乎不透光。這說明VO2對紫外光具有極大的阻隔性,在紫外光的防護等應用上有極大的前景。而在波長400nm-760nm的可見光波段,高溫下和低溫下薄膜的光透過率都是隨著波長增加而急速增加。且低溫段也就是相變前的半導體狀態(tài)下,可見光的透過率要略高于相變后的金屬態(tài)的透過率。這種在20℃左右的室溫段的低透過率的特點,可應用于窗戶玻璃以及汽車玻璃涂層,也就是我們常說的智能窗的應用上。而在近紅外光的波段,隨著波長的增加,低溫下半導體態(tài)的VO2薄膜的光透過率要明顯高于高溫下金屬態(tài)的透過率。且隨著波長的增長,
【參考文獻】:
期刊論文
[1]X射線光電子能譜在材料研究中的應用[J]. 向詩銀,楊水金. 湖北師范大學學報(自然科學版). 2017(01)
[2]微波布拉格衍射實驗中模擬晶體位置選取的討論[J]. 劉強春,花寧,尹新國. 吉林師范大學學報(自然科學版). 2016(01)
[3]For progress in natural science: Materials international investigations of structural phase transformation and THz properties across metal–insulator transition in VO2/Al2O3 epitaxial films[J]. Mengmeng Yang,Yuanjun Yang,Liangxin Wang,Bin Hong,Haoliang Huang,Xiang Hu,Yi Zhao,Yongqi Dong,Xiaoguang Li,Yalin Lu,Jun Bao,Zhenlin Luo,Chen Gao. Progress in Natural Science:Materials International. 2015(05)
[4]光電安全認證及安全應用中的關(guān)鍵技術(shù)研究[J]. 翟瑞占,李英杰,李海明. 電子技術(shù)與軟件工程. 2014(21)
[5]檢測儀器的普及和應用[J]. 白燕,陳盛喜. 今日科苑. 2014(09)
[6]摻鉀VO2薄膜制備及熱致相變特性研究[J]. 宋林偉,張玉波,黃婉霞,趙冬,吳靜,羅蓉蓉,徐元杰. 稀有金屬材料與工程. 2013(S2)
[7]非致冷微測輻射熱計用Cd1-xZnxS高性能電阻溫度系數(shù)材料[J]. 高. 紅外. 2009(07)
[8]VOx微測輻射熱計的研制[J]. 代建賓,雷靜,趙建忠,胡長平. 激光與紅外. 2001(06)
[9]分子束外延系統(tǒng)中生長Si/SiO2超晶格及其發(fā)光[J]. 林峰,盛篪,龔大衛(wèi),劉曉晗. 半導體學報. 1998(08)
[10]實用范德堡測量系統(tǒng)[J]. 施浩. 復旦學報(自然科學版). 1987(04)
博士論文
[1]VO2外延薄膜的制備和相變機理研究[D]. 楊蒙蒙.中國科學技術(shù)大學 2015
碩士論文
[1]Co摻雜MgxZn1-xO薄膜的微結(jié)構(gòu)及磁性研究[D]. 葉升濤.山東大學 2016
[2]陰極弧離子鍍AlCrN涂層組織與摩擦磨損性能研究[D]. 付貴忠.常州大學 2015
[3]Ti、Y摻雜對氧化釩薄膜結(jié)構(gòu)與性能的影響[D]. 郭瑞.電子科技大學 2015
[4]氧化溫度和摻Mo對VO2薄膜溫度電阻系數(shù)(TCR)的影響[D]. 陳飛.東華大學 2015
[5]VO2/Nb:SrTiO3異質(zhì)結(jié)的電學性質(zhì)及納米團簇對VO2薄膜光電性質(zhì)影響的研究[D]. 何帆.北京交通大學 2012
[6]VO2制作工藝與相變特性研究[D]. 胥進.華中科技大學 2011
[7]鋁摻雜量對氧化鋅薄膜光電性能的影響[D]. 穆慧慧.鄭州大學 2010
[8]氧化釩薄膜的摻雜及電阻突變特性研究[D]. 趙力丁.電子科技大學 2006
本文編號:3605753
【文章來源】:合肥工業(yè)大學安徽省 211工程院校 教育部直屬院校
【文章頁數(shù)】:73 頁
【學位級別】:碩士
【部分圖文】:
紅外探測器的分類Fig1.1Classificationofinfrareddetectors
第一章緒論3圖1.2(a)為相變前的單斜金紅石結(jié)構(gòu),(b)為相變后的金紅石四方結(jié)構(gòu)Fig1.2(a)Showsthemonoclinicrutilestructurebeforethephasechange,and(b)showsthequadrilateralrutilestructureafterthephasechange由圖1.2可以看出,當溫度在相變溫度以下時,VO2由四方金紅石相轉(zhuǎn)變?yōu)閱涡毕?VO2(M1)相),在單斜相中V原子沿原來的c軸自發(fā)地發(fā)生二聚化現(xiàn)象,V-V原子鏈間距變?yōu)?.62和3.16,并且釩原子中的d軌道上的電子,都一一定位在了V-V鍵上,脫離了金屬原子共有的屬性,這導致VO2不再具有金屬的導電性而呈現(xiàn)出n型半導體性質(zhì),V-V二聚導致VO2(R)相的c軸單胞加倍形成單斜晶系VO2(M1)相。在高溫時VO2為金紅石結(jié)構(gòu)(VO2(R)相),其中V原子和O原子構(gòu)成V-O八面體,V原子沿著c軸方向等間距一一排列,且排列方式呈現(xiàn)線型(如圖1.2(a)),V-V原子間距為2.85;在高溫時VO2為四方金紅石結(jié)構(gòu)(VO2(R)相),其中V原子和O原子構(gòu)成V-O八面體,V原子沿著c軸方向等間距線性排列,V-V原子間距為2.87,同時釩原子中的d電子也成為所有金屬原子所共有[22]。VO2在相變的過程中也伴隨著能帶結(jié)構(gòu)的改變。Goodenough在1972年提出了相變的能級理論[23],這種理論是基于已有的晶體場理論和分子-軌道理論的基矗如圖1.3的示意圖可以看出,價帶σ和π的能帶主要由O的2p電子態(tài)占據(jù),而V原子中的3d電子態(tài)占據(jù)了相應的導帶σ*和π*能帶。根據(jù)晶體場理論,VO2(R)相中V原子的3d電子在V-O八面體晶體場的作用下分裂為eg能級和t2g能級,其中eg能級較高,所以處于費米面以上。而t2g能級位于費米能級附近則是因為能級較低的緣故。另外可以看出,在t2g能級的基礎(chǔ)上又分裂d//態(tài)和π*態(tài)。當VO2發(fā)生相變時由等距的V-V原子鏈,變成二聚化的原子鏈,d//態(tài)將會分裂為全滿的成鍵態(tài)和空?
合肥工業(yè)大學專業(yè)碩士研究生學位論文4而使得π*能態(tài)能量升高,π*將遠離費米能級而成為空態(tài)。最終在d//態(tài)和t2g態(tài)之間產(chǎn)生帶隙,這就是從晶體場的能帶角度出發(fā)來看待VO2的MIT。由上分析可知,VO2相變的本質(zhì)就是在溫度升高或降低至相變溫度時,由于V4+離子的位置偏離,導致π*和d//軌道之間的位置產(chǎn)生變化,電子運動狀態(tài)改變,失去了連續(xù)性,進而呈現(xiàn)出金屬相向半導體相轉(zhuǎn)變的性質(zhì)[24]。圖1.3VO2金屬絕緣體轉(zhuǎn)變能帶結(jié)構(gòu)示意圖Fig1.3SchematicdiagramofbandtransitionstructureofVO2metalinsulator1.2.2二氧化釩的金屬—緣體相變特性二氧化釩在發(fā)生金屬—絕緣體轉(zhuǎn)變后,其電學特性和光學特性都會發(fā)生劇烈的變化。1.2.2.1二氧化釩的光學特性二氧化釩金屬-絕緣體相變過程中,光學性能會發(fā)生顯著的劇烈變化[25][26]。其中表現(xiàn)最明顯的就是光學透過率會發(fā)生顯著變化。如圖1.3所示為VO2薄膜分別在90℃和20℃下的光學透過率曲線?梢詮膱D中清楚地看到,不管是在高溫還是低溫狀態(tài)下,波長在300nm以下,也就是在紫外光波段,薄膜的光學透過率都是非常低的,幾乎不透光。這說明VO2對紫外光具有極大的阻隔性,在紫外光的防護等應用上有極大的前景。而在波長400nm-760nm的可見光波段,高溫下和低溫下薄膜的光透過率都是隨著波長增加而急速增加。且低溫段也就是相變前的半導體狀態(tài)下,可見光的透過率要略高于相變后的金屬態(tài)的透過率。這種在20℃左右的室溫段的低透過率的特點,可應用于窗戶玻璃以及汽車玻璃涂層,也就是我們常說的智能窗的應用上。而在近紅外光的波段,隨著波長的增加,低溫下半導體態(tài)的VO2薄膜的光透過率要明顯高于高溫下金屬態(tài)的透過率。且隨著波長的增長,
【參考文獻】:
期刊論文
[1]X射線光電子能譜在材料研究中的應用[J]. 向詩銀,楊水金. 湖北師范大學學報(自然科學版). 2017(01)
[2]微波布拉格衍射實驗中模擬晶體位置選取的討論[J]. 劉強春,花寧,尹新國. 吉林師范大學學報(自然科學版). 2016(01)
[3]For progress in natural science: Materials international investigations of structural phase transformation and THz properties across metal–insulator transition in VO2/Al2O3 epitaxial films[J]. Mengmeng Yang,Yuanjun Yang,Liangxin Wang,Bin Hong,Haoliang Huang,Xiang Hu,Yi Zhao,Yongqi Dong,Xiaoguang Li,Yalin Lu,Jun Bao,Zhenlin Luo,Chen Gao. Progress in Natural Science:Materials International. 2015(05)
[4]光電安全認證及安全應用中的關(guān)鍵技術(shù)研究[J]. 翟瑞占,李英杰,李海明. 電子技術(shù)與軟件工程. 2014(21)
[5]檢測儀器的普及和應用[J]. 白燕,陳盛喜. 今日科苑. 2014(09)
[6]摻鉀VO2薄膜制備及熱致相變特性研究[J]. 宋林偉,張玉波,黃婉霞,趙冬,吳靜,羅蓉蓉,徐元杰. 稀有金屬材料與工程. 2013(S2)
[7]非致冷微測輻射熱計用Cd1-xZnxS高性能電阻溫度系數(shù)材料[J]. 高. 紅外. 2009(07)
[8]VOx微測輻射熱計的研制[J]. 代建賓,雷靜,趙建忠,胡長平. 激光與紅外. 2001(06)
[9]分子束外延系統(tǒng)中生長Si/SiO2超晶格及其發(fā)光[J]. 林峰,盛篪,龔大衛(wèi),劉曉晗. 半導體學報. 1998(08)
[10]實用范德堡測量系統(tǒng)[J]. 施浩. 復旦學報(自然科學版). 1987(04)
博士論文
[1]VO2外延薄膜的制備和相變機理研究[D]. 楊蒙蒙.中國科學技術(shù)大學 2015
碩士論文
[1]Co摻雜MgxZn1-xO薄膜的微結(jié)構(gòu)及磁性研究[D]. 葉升濤.山東大學 2016
[2]陰極弧離子鍍AlCrN涂層組織與摩擦磨損性能研究[D]. 付貴忠.常州大學 2015
[3]Ti、Y摻雜對氧化釩薄膜結(jié)構(gòu)與性能的影響[D]. 郭瑞.電子科技大學 2015
[4]氧化溫度和摻Mo對VO2薄膜溫度電阻系數(shù)(TCR)的影響[D]. 陳飛.東華大學 2015
[5]VO2/Nb:SrTiO3異質(zhì)結(jié)的電學性質(zhì)及納米團簇對VO2薄膜光電性質(zhì)影響的研究[D]. 何帆.北京交通大學 2012
[6]VO2制作工藝與相變特性研究[D]. 胥進.華中科技大學 2011
[7]鋁摻雜量對氧化鋅薄膜光電性能的影響[D]. 穆慧慧.鄭州大學 2010
[8]氧化釩薄膜的摻雜及電阻突變特性研究[D]. 趙力丁.電子科技大學 2006
本文編號:3605753
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